[发明专利]硅氮烷裂解的连续方法

权利要求书

1.硅氮烷的裂解方法，其特征为，该方法连续进行，其中至少一种起始物是以气态使用的，并且其包括两步硅氮烷裂解反应并用来生产具有X-N-Y结构特征的化合物，其中X和Y一个为B，另一个为Si，

该方法包括以下步骤：

将式(3)R²₃SiNR¹SiR³₃的化合物，

其中R²和R³每种情况下相互独立地代表具有1-20个碳原子的烃基并且R¹代表氢或具有1-20个C原子的烃基，

首先与式(2)化合物SiHal_4-yR_y反应，

其中y＝0、1或2并且Ha l选自F、Cl、Br和I，并且R代表氢或具有1到20个C原子的烃基，

并随后在下一步中与式(4)化合物BHal_3-xR_x反应，

其中x＝0或1并且Hal选自F、Cl、Br和I，并且R代表氢或具有1-20个C原子的烃基。

2.权利要求1的方法，其特征为，在液相下的一种起始物与在气相下的第二种起始物反应。

3.权利要求1或2的方法，其特征为，所有的起始物是以气态使用的。

4.权利要求1或2的方法，其特征为，将反应的目标产物从反应混合物中除去。

5.权利要求1或2的方法，其特征为，将起始物中的一种以过量使用。

6.权利要求1或2的方法，其特征为，生成的产物是用于非氧化物陶瓷的分子单组分前体。

7.权利要求1或2的方法，其特征为，生产一种式(1)的化合物R_xHal_3-xSi-NR¹-BR_yHal_2-y，其中SiHal_4-yR_y用作式(2)的化合物且BHal_3-xR_x用作式(4)的化合物；式(1)中，Hal每种情况下独立地表示Cl、Br或I，R每种情况下独立地代表具有1到20个C原子的烃基或氢，R¹代表具有1到20个C原子的烃基或氢，x＝0、1或2并且y＝0或1。

8.权利要求1或2的方法，其特征为，该反应在-100℃到300℃的温度和/或0.1mbar到2bar的压力下进行。

9.权利要求1的方法，其特征为，将压力和温度调节至使起始物以气态存在，而中间体和终产物以液态存在。

10.权利要求1的方法，其特征为，与式(2)化合物的反应在＞25℃的温度下进行。

11.权利要求10的方法，其特征为，与式(2)化合物的反应在≥50℃的温度下进行。

12.权利要求1的方法，其特征为，所述式(3)的硅氮烷化合物与过量的式(2)化合物反应。

13.权利要求1的方法，其特征为，R₃SiHal作为副产物从该方法中分离出来。

14.权利要求1或2的方法，其特征为，将压力和温度调节至使在反应期间生成的式(5)R₃SiHal的副产物的分压低于其饱和蒸气压，其中Hal每种情况下独立地表示Cl、Br或I，R每种情况下独立地代表具有1到20个C原子的烃基或氢，x＝0、1或2并且y＝0或1。

15.权利要求1的方法，其特征为，式(3)的化合物与式(2)的化合物的反应在下述压力和温度条件下进行，在此条件下起始物以气态存在而产生的中间体冷凝为液体，其中将中间体以液态形式分离出来。

16.权利要求15的方法，其特征为，式(3)的化合物与式(2)的化合物的反应在下述压力和温度条件下进行，在此条件下式(3)的起始物以气态存在，而式(2)的起始物和中间体以液态存在。

17.权利要求1或2的方法，其特征为，生产化合物CH₃Cl₂SiNHBCl₂(MADB)，Cl₃SiNHBCl₂(TADB)，(CH₃)₂ClSiNHBCl₂(DADB)，Cl₃SiNCH₃BCl₂(DMTA)或CH₃Cl₂SiNCH₃BCl₂(DDMA)。