[发明专利]等离子体排放装置中的介电部件的热控制

权利要求书

1.一种等离子体排放装置，包括：

a)用于容纳等离子体的排放室，所述排放室包含介电材料，其暴露于由所述等离子体所产生的热量；以及

b)RF能量源，其借助于绕所述排放室安置的弹性感应盘管而将RF能量耦合进入所述等离子体中，所述感应盘管还被设置为与所述介电材料的表面接触的冷却设备，以便均匀地从所述介电材料的表面吸热，所述感应盘管由于其弹性而将残余压力施加在所述排放室上。

2.根据权利要求1所述的等离子体排放装置，其特征在于，所述排放室完全由介电材料构成。

3.根据权利要求1所述的等离子体排放装置，其特征在于，所述排放室是圆筒形的。

4.根据权利要求3所述的等离子体排放装置，其特征在于，所述感应盘管是螺旋形的，并且共轴线地配合至所述圆筒形的排放室的外侧表面。

5.根据权利要求1所述的等离子体排放装置，其特征在于，所述感应盘管被安置成直接与所述介电材料的表面接触。

6.根据权利要求5所述的等离子体排放装置，其特征在于，所述盘管是由金属管构成。

7.根据权利要求6所述的等离子体排放装置，其特征在于，所述金属管具有与所述介电材料的表面接触的平坦表面。

8.根据权利要求6所述的等离子体排放装置，其特征在于，所述金属管容纳冷却流体。

9.根据权利要求1所述的等离子体排放装置，其特征在于，所述感应盘管是被嵌入包封材料中。

10.根据权利要求9所述的等离子体排放装置，其特征在于，所述包封材料是硅酮粘合剂。

11.根据权利要求9所述的等离子体排放装置，其特征在于，所述排放室是筒形的，并且所述包封材料充满所述筒形的排放室与绕所述筒形的排放室共轴线地设置的筒形壳体之间的空间。

12.根据权利要求9所述的等离子体排放装置，其特征在于，所述感应盘管被安置成直接与所述介电材料的表面接触。

13.根据权利要求12所述的等离子体排放装置，其特征在于，所述包封材料充满所述感应盘管与所述介电材料的表面之间的残留间隙。

14.一种操作等离子体排放装置的方法，包括：

a)提供等离子体排放装置，其包括用于容纳等离子体的排放室，其中所述排放室具有至少一个介电表面，其暴露于由所述等离子体所产生的热量；以及弹性感应盘管，其绕所述排放室被安置，并且与所述至少一个介电表面接触；

b)借助于所述感应盘管将RF能量耦合至所述等离子体；并且

c)利用所述感应盘管从所述至少一个介电表面均匀地吸热。

15.根据权利要求14所述的方法，其特征在于，所述排放室是圆筒形的。

16.根据权利要求15所述的方法，其特征在于，所述感应盘管是螺旋形的，并且共轴线地配合至所述圆筒形的排放室的外侧表面。

17.根据权利要求14所述的方法，其特征在于，所述感应盘管安置成直接与所述至少一个介电表面接触。

18.根据权利要求14所述的方法，其特征在于，所述感应盘管嵌入包封材料中。

19.根据权利要求14所述的方法，其特征在于，还包括以下步骤，将冷却流体流经所述感应盘管，以从所述感应盘管吸收热量。

20.一种构造等离子体排放装置的方法，包括：

a)提供用于容纳等离子体的排放室，其包含介电材料；

b)提供螺旋形弹性感应盘管，其具有由所述感应盘管的面向内的表面约束的内部空间；

c)施加力，以在所述感应盘管的面向内的表面与所述排放室的外侧表面之间产生临时物理间隙；

d)将所述排放室插入所述感应盘管的内部空间中；并且

e)去除所述力，并且因而使得所述感应盘管的面向内的表面紧固地接触所述排放室的外侧表面。

21.根据权利要求20所述的方法，其特征在于，所述临时物理间隙是通过扩展所述感应盘管的内部空间而形成的。