[发明专利]含硅的TARC/阻挡层

权利要求书

1.在衬底上形成有图案的材料层的方法，该方法包括：

提供在其表面上含有材料层的衬底；

在衬底上沉积光刻胶组合物以在材料层上形成光刻胶层；

在光刻胶层上施加顶部抗反射涂料和阻挡层材料，因此形成涂覆的衬底，顶部抗反射涂料和阻挡层材料包括至少一个含硅部分和至少一个含水碱溶性部分；

将涂覆的衬底成图案方式曝露于成像辐射；

从涂覆的衬底上同时脱除顶部抗反射涂料和阻挡层材料和一部分光刻胶层，因此在材料层上形成有图案的光刻胶层；和

转移光刻胶层图案到材料层上，

其中，所述含硅部分包括Si-Si、Si-C、Si-N或Si-O，且所述含水碱溶性部分选自羟基、羧酸、磺酰胺、二羧酸酰亚胺、N-羟基二羧酸酰亚胺、氨基、和亚氨基。

2.权利要求1的方法，其中抗反射涂覆和阻挡层材料的折光率为1.5-1.7。

3.权利要求1的方法，其中该聚合物进一步包括至少一个含氟部分。

4.权利要求1的方法，其中该含硅部分包括SiO。

5.权利要求4的方法，其中该聚合物是有机硅氧烷。

6.权利要求5的方法，其中该聚合物是有机硅倍半氧烷。

7.权利要求1的方法，其中该至少一个含水碱溶性部分是氟代醇。

8.权利要求7的方法，其中该氟代醇是三氟甲醇或六氟甲醇。

9.权利要求1的方法，其中该聚合物进一步包括至少一个酸不稳定部分。

10.权利要求1的方法，其中，所述顶部抗反射涂覆和阻挡层材料进一步包括至少一种选自如下的溶剂：1-丁醇、甲醇、乙醇、1-丙醇、乙二醇、1，2-丁二醇、1，3-丁二醇、1，4-丁二醇、1，2-丙二醇、1-甲基-2-丁醇、1-戊醇、2-戊醇、3-戊醇、1-己醇、2-己醇、3-己醇、1-庚醇、2-庚醇、3-庚醇、4-庚醇、2-甲基-1-戊醇、2-甲基-2-戊醇、2-甲基-3-戊醇、3-甲基-1-戊醇、3-甲基-2-戊醇、3-甲基-3-戊醇、4-甲基-1-戊醇、4-甲基-2-戊醇、2，4-二甲基-3-戊醇、3-乙基-2-戊醇、1-甲基环戊醇、2-甲基-1-己醇、2-甲基-2-己醇、2-甲基-3-己醇、3-甲基-3-己醇、4-甲基-3-己醇、5-甲基-1-己醇、5-甲基-2-己醇、5-甲基-3-己醇、4-甲基环己醇、和1，3-丙二醇。

11.权利要求6的方法，其中该聚合物包括至少一种具有如下结构的单体：

其中R₁包括含水碱溶性部分，和x是1-1.95，

12.权利要求11的方法，其中该含水碱溶性部分是氟代醇。

13.权利要求1的方法，其中聚合物包括至少一种具有如下结构的单体：

其中，每个R₂独立地选自氟、氟化的线性或支化烷基、氟环烷基、氟芳基、和其任何组合；

每个A独立地选自氧原子、硫原子、NR₃、线性或支化烷基、线性或支化氟烷基、环烷基或氟环烷基、和氟芳基；p是0或1；和

每个R₃独立地选自氢、卤素、线性或支化烷基、线性或支化的氟烷基、环烷基、氟环烷基、氟芳基、和其任何组合。

14.权利要求13的方法，其中R₂和R₃进一步包括氧、硫和氮的至少一个。

15.权利要求13的方法，其中至少一种单体选自：

16.权利要求11的方法，其中聚合物进一步包括至少一种具有如下结构的共聚单体：

其中R₄包括选自酸酐、酯、醚和醇的极性有机部分；和x是1-1.95。

17.权利要求16的方法，其中所述酯为内酯。

18.权利要求16的方法，其中该共聚单体选自