[发明专利]温度调整方法、热处理设备以及半导体器件的制造方法有效
申请号: | 200580034896.4 | 申请日: | 2005-11-28 |
公开(公告)号: | CN101040235A | 公开(公告)日: | 2007-09-19 |
发明(设计)人: | 杉下雅士;上野正昭 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立国际电气 |
主分类号: | G05D23/00 | 分类号: | G05D23/00;G05B13/02;H01L21/22;H01L21/31 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 | 代理人: | 季向冈 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 温度 调整 方法 热处理 设备 以及 半导体器件 制造 | ||
【权利要求书】:
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立国际电气,未经株式会社日立国际电气许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200580034896.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:薄膜晶体管装置及其制造方法
- 下一篇:立体声兼容的多声道音频编码