[发明专利]用于将微流体装置与流体处理装置接口的装置和方法无效
| 申请号: | 200580033642.0 | 申请日: | 2005-08-04 |
| 公开(公告)号: | CN101094722A | 公开(公告)日: | 2007-12-26 |
| 发明(设计)人: | 皮耶罗·祖凯利;蒂洛·卡伦巴赫;吉安-卢卡·莱蒂耶里;赫尔穆特·梅特;伊莎贝尔·塞马可;巴尔特·范德维维尔;赫维·维奥兰 | 申请(专利权)人: | 斯平克斯公司 |
| 主分类号: | B01L3/00 | 分类号: | B01L3/00 |
| 代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 车文;郑立 |
| 地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 流体 装置 处理 接口 方法 | ||
1、一种用于执行化验的设备,包括:
瓦片,具有顶部和底部平表面,所述瓦片还有输入端和相对端,所述输入端具有至少一个输入端口;
至少一个流体处理构件,位于所述瓦片的顶部和底部平表面之间,所述至少一个流体处理构件与所述至少一个输入端口流体连通。
2、根据权利要求1所述的设备,还包括用于将所述瓦片连接到另外的瓦片的装置。
3、根据权利要求1所述的设备,其中所述瓦片具有用于连接到向心转子设备的装置。
4、根据权利要求1所述的设备,其中所述至少一个流体处理构件选自包括通道、检测室、贮液器、阀门机构、检测器、传感器、温度控制元件、过滤器、混合元件和控制系统的组。
5、根据权利要求1所述的设备,其中所述瓦片连接到多个瓦片,所述多个瓦片形成一个瓦片砖。
6、根据权利要求1所述的设备,进一步包含用于识别所述瓦片的装置。
7、根据权利要求5所述的设备,进一步包含用于识别所述砖的装置。
8、根据权利要求6所述的设备,其中所述识别装置选自包括光学识别、机械识别、物理识别、电识别、磁识别和无线电识别的组。
9、根据权利要求5所述的设备,其中所述瓦片砖包含多个输入端口,所述输入端口形成标准的实验室输入形式。
10、根据权利要求5所述的设备,其中所述瓦片砖可被堆叠。
11、根据权利要求10所述的设备,其中所述可被堆叠的瓦片砖可被堆叠成使得所述输入端口在砖的顶部上。
12、根据权利要求10所述的设备,其中所述可堆叠的瓦片砖可被堆叠成使得所述输入端口在所述瓦片砖的侧面上。
13、根据权利要求10所述的设备,其中所述可堆叠的瓦片砖可被堆叠成使得输入端口在所述瓦片砖的顶部上,且输入端口在所述瓦片砖的侧面上。
14、根据权利要求1所述的设备,其中所述瓦片含有多种流体部件。
15、根据权利要求1所述的设备,其中所述瓦片由选自包括聚四氟乙烯、聚乙稀、聚丙烯、甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、硅、氧化硅、氰代甲烷-丁二烯-苯乙烯(ABS)、聚碳酸酯、聚乙稀、聚苯乙稀、聚烯烃、聚丙烯、茂金属或其混合物的组。
16、根据权利要求1所述的设备,其中所述瓦片还包含另外的部件,该部件选自包括电控阀门、集成电路、激光二极管、光电二极管和电阻加热元件、热点和冷点以及光学构件。
17、根据权利要求1所述的设备,其中所述输入端口还包含用于密封的装置。
18、根据权利要求17所述的设备,其中所述用于密封的装置是薄膜。
19、根据权利要求18所述的设备,其中所述薄膜是自密封件。
20、根据权利要求17所述的设备,其中所述用于密封的装置是微板盖。
21、根据权利要求17所述的设备,其中所述用于密封的装置密封一个子集或可用的输入端口。
22、根据权利要求17所述的设备,其中所述输入端口预载有气体、液体或固体试剂。
23、根据权利要求17所述的设备,其中所述输入端口预载有蛋白质或核酸或细胞或有机试剂。
24、根据权利要求17所述的设备,其中所述输入端口预载有处于冻干或脱水状态的分子。
25、一种用于执行化验的设备,包含:
至少一个微流体瓦片,所述至少一个微流体瓦片具有与至少一个流体电路流体连通的至少一个输入端口;
多个所述微流体瓦片,形成所述瓦片的组件,其中所述组件形成具有多个输入端口的单元表面,所述多个输入端口形成标准的实验室接口;以及
拆卸装置,用于从所述组件分离瓦片以用在处理装置中。
26、根据权利要求25所述的设备,其中所述至少一个输入端口位于微流体瓦片的小面上。
27、根据权利要求25所述的设备,其中所述处理装置选自包括向心转子和微板读数器的组。
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