[发明专利]均质化玻璃熔体的方法和装置

权利要求书

1.一种搅拌玻璃熔体的方法，该方法包括以下步骤：

使熔融玻璃流过搅拌腔，所述搅拌腔具有至少一个壁和盖，所述盖具有贯通的通道，所述搅拌腔进一步包括搅拌器，所述搅拌器包括搅拌轴，所述搅拌轴延伸通过盖的通道，从而在搅拌轴和盖之间形成环形间隙；

使气体流过所述环形间隙；

其中，所述气体流过环形间隙的速率至少约为100sccm。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述气体是空气。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述气流速率至少约为400sccm。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述气流速率至少约为900sccm。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法进一步包括用加热器加热所述盖的步骤。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法进一步包括用加热器加热所述轴的步骤。

7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法进一步包括通过使电流通过搅拌腔的内表面来加热搅拌腔的步骤。

8.如权利要求1所述的方法，其特征在于，使气体流过的步骤包括在搅拌腔内的玻璃表面上方形成真空。

9.如权利要求1所述的方法，其特征在于，使气体流过的步骤包括对所述搅拌腔进行增压。

10.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述气流总是向下通过环形间隙。

11.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述真空是通过经由至少一根气流管道对搅拌腔进行抽空形成的，所述气流管道的一个末端终结在搅拌腔内，该气流管道并不延伸超过腔内的熔融玻璃表面。

12.如权利要求9所述的方法，其特征在于，通过至少一根气流管道对所述腔进行增压，所述气流管道一个末端终结在腔内，该气流管道并不延伸超过腔内的熔融玻璃表面。

13.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述真空是通过经由至少一个气流通道对腔进行抽空形成的，所述气流通道位于腔壁和腔盖之间的隔板中。

14.一种用于搅拌玻璃熔体的装置，所述装置包括以下部件：

设计成能容纳熔融玻璃的搅拌腔，所述搅拌腔包括盖，盖中限定有贯通的通道；

搅拌器，所述搅拌器具有搅拌轴，所述搅拌轴延伸通过通道进入搅拌腔中，在盖和轴之间的空间形成一环形间隙；

使气体流过所述搅拌腔的至少一根气流管道，所述气流管道的一个末端在搅拌腔内，所述气流管道的末端并不延伸至熔融玻璃表面的顶部。

15.如权利要求14所述的装置，其特征在于，所述气流管道与真空系统相连。

16.如权利要求14所述的装置，其特征在于，所述气流管道与压缩机相连。

17.如权利要求14所述的装置，其特征在于，环形间隙中心和搅拌轴中心之间的距离不超过约0.15英寸。

18.一种用如权利要求14所述的装置搅拌玻璃熔体的方法，所述方法包括以下步骤：

使熔融玻璃流过搅拌腔；

通过气流管道对搅拌腔抽真空；

使气体以进入搅拌腔的方向流过环形间隙；

其中，气体流过环形间隙的速率至少约为100sccm。

19.如权利要求18所述的方法，其特征在于，所述气流速率至少约为400sccm。

20.如权利要求18所述的方法，其特征在于，使气体流过的步骤包括在搅拌腔内形成真空。