[发明专利]成像方法和装置

权利要求书

1.一种成像装置，包括：

发射偏振光束的光源；

包括控制层和光反射表面的光学组件，其中所述光束通过控制层并且被光反射表面反射，以在光反射表面附近提供具有控制高度和强度的渐逝场，光反射表面适于在其上提供标本阵列，使得在渐逝场中的标本阵列导致在所述光束的横截面中的空间分布偏振变化；和

检测器，设置为检测所述光束的空间分布偏振变化，以提供标本阵列的图像。

2.如权利要求1所述的装置，其中所述控制层包括玻璃、液晶、和/或半导体材料。

3.如权利要求1所述的装置，其中所述控制层具有控制渐逝场产生的厚度。

4.如权利要求1所述的装置，其中所述控制层具有控制渐逝场产生的折射率。

5.如权利要求1所述的装置，其中所述控制层具有控制渐逝场产生的反射特性。

6.如权利要求1所述的装置，其中所述光反射表面包括施加电势的金属膜。

7.如权利要求6所述的装置，其中所述金属膜包括金、银、钛、和/或铬。

8.如权利要求1所述的装置，其中所述标本阵列包括由多个场形成的二维阵列，所述多个场包括生物分子物质。

9.如权利要求8所述的装置，其中所述生物分子物质是蛋白质、肽、碳水化合物、脂肪、和/或多聚核苷酸序列。

10.一种成像装置，包括：

发射偏振光束的光源；

包括光反射表面的光学组件，其中所述光束被光反射表面反射，以在光反射表面附近提供渐逝场，光反射表面包括在其上提供标本阵列的连接部分，使得在渐逝场中的标本阵列导致在所述光束的横截面中的空间分布偏振变化；和

检测器，设置为检测所述光束的空间分布偏振变化，以提供标本阵列的图像。

11.如权利要求10所述的装置，其中所述光反射表面由从包括半导体、金属和塑料的组中选择的材料组成。

12.如权利要求10所述的装置，其中所述光反射表面由硅烷组成，所述连接部分包括硅烷剂。

13.如权利要求10所述的装置，其中所述光反射表面由金属组成，所述连接部分包括含硫化合物。

14.如权利要求13所述的装置，其中所述金属包括金、银、钛、和/或铬。

15.如权利要求13所述的装置，其中含硫化合物是硫醇。

16.如权利要求10所述的装置，其中所述光反射表面由塑料组成。

17.如权利要求10所述的装置，其中所述连接部分具有生物分子物质的亲和力。

18.如权利要求10所述的装置，其中所述标本阵列包括由多个场形成的二维阵列，所述多个场包括生物分子物质。

19.如权利要求18所述的装置，其中所述生物分子是蛋白质、肽、碳水化合物、脂肪、和/或多聚核苷酸序列。

20.一种成像方法，包括：

使偏振光束射入包括控制层和光反射表面的光学组件；

利用所述控制层在所述光反射表面附近提供具有控制高度和强度的渐逝场；

在渐逝场中提供标本阵列，该标本阵列导致在光束横截面中的空间分布偏振变化；和

使经反射的光束经过光学组件，在所述光学组件中，光束的空间分布偏振变化被检测和处理，以提供标本阵列的图像。

21.如权利要求20所述的方法，其中所述控制层的光学性能用于控制渐逝场的高度和强度。

22.如权利要求21所述的方法，其中所述控制层的光学性能从包括厚度、折射率、和反射特性组中选择。

23.如权利要求20所述的方法，其中所述控制层由液晶组成，液晶用于控制控制层的光学性能。

24.如权利要求20所述的方法，其中所述光反射表面由金属组成。

25.如权利要求24所述的方法，还包括给金属施加电势，以控制渐逝场的高度和强度。