[发明专利]用于差错检测和工艺控制的等离子体离子注入监视系统有效
| 申请号： | 200580021855.1 | 申请日： | 2005-05-26 |
| 公开（公告）号： | CN1977352A | 公开（公告）日： | 2007-06-06 |
| 发明（设计）人： | 方子伟;高圣天;埃德蒙·J·温德;丹尼尔·迪斯塔索;卢多维克·戈代;高本雄;贾伊·T·朔伊尔 | 申请（专利权）人： | 瓦里安半导体设备联合公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 杨生平;杨红梅 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 差错 检测 工艺 控制 等离子体 离子 注入 监视 系统 | ||
【说明书】：
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