[发明专利]在介电基片的基础上制造片状工件的方法和用于该制造方法的真空处理设备有效
| 申请号： | 200580013677.8 | 申请日： | 2005-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN1950921A | 公开（公告）日： | 2007-04-18 |
| 发明（设计）人： | A·布彻尔;W·韦兰德;C·埃勒特;L·桑森南斯 | 申请（专利权）人： | OC欧瑞康巴尔斯公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C16/02 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘春元;魏军 |
| 地址： | 列支敦士*** | 国省代码： | 列支敦士登;LI |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 介电基片 基础上 制造 片状 工件 方法 用于 真空 处理 设备 | ||
【权利要求书】：
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