[实用新型]一种真空电弧喷镀装置无效
| 申请号: | 200520092403.X | 申请日: | 2005-09-08 |
| 公开(公告)号: | CN200955065Y | 公开(公告)日: | 2007-10-03 |
| 发明(设计)人: | 王俊涛;郭旭;权宝成;许鹏 | 申请(专利权)人: | 沈阳黎明航空发动机(集团)有限责任公司 |
| 主分类号: | C23C4/00 | 分类号: | C23C4/00 |
| 代理公司: | 沈阳晨创科技专利代理有限责任公司 | 代理人: | 陈亚屏 |
| 地址: | 110043辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 真空 电弧 装置 | ||
【权利要求书】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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