[发明专利]液浸曝光装置及其控制方法以及器件制造方法无效
| 申请号： | 200510089424.0 | 申请日： | 2005-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN1731288A | 公开（公告）日： | 2006-02-08 |
| 发明（设计）人： | 秋元智 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 及其 控制 方法 以及 器件 制造 | ||
【说明书】：
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社，未经佳能株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200510089424.0/2.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
