[发明专利]形成具有高迁移率的金属/高k值栅叠层的方法有效
| 申请号： | 200510078164.7 | 申请日： | 2005-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN1722463A | 公开（公告）日： | 2006-01-18 |
| 发明（设计）人： | 万达·安德雷奥尼;阿莱桑德罗·C·卡莱加利;埃杜瓦德·A·卡蒂尔;阿莱桑德罗·库利奥尼;克里斯多弗·P·德米;埃夫格尼·古塞夫;迈克尔·A·格里贝尤克;保罗·C·杰米森;拉加拉奥·加米;迪亚尼·L·莱塞;芬顿·R·迈克费里;维加伊·纳拉亚南;加罗·A·皮格尼多里;小约瑟夫·F·西帕德;苏菲·扎法尔 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | H01L29/78 | 分类号： | H01L29/78;H01L21/28;H01L21/336;H01L21/8234 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 秦晨 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 形成 具有 迁移率 金属 值栅叠层 方法 | ||
【说明书】：
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