[发明专利]成像设备、聚焦方法、聚焦控制方法有效
| 申请号： | 200510068542.3 | 申请日： | 2005-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN1678034A | 公开（公告）日： | 2005-10-05 |
| 发明（设计）人： | 白石贤二 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | H04N5/232 | 分类号： | H04N5/232;G03B7/28 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 黄小临;王志森 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 成像 设备 聚焦 方法 控制 | ||
【说明书】：
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