[发明专利]描绘图形、抗蚀剂图形的形成方法和曝光装置控制方法有效
| 申请号： | 200510066018.2 | 申请日： | 2005-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN1690862A | 公开（公告）日： | 2005-11-02 |
| 发明（设计）人： | 河村大辅;伊藤信一 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 陈海红;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 描绘 图形 抗蚀剂 形成 方法 曝光 装置 控制 | ||
【说明书】：
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