[发明专利]制造过氧化物交联绝缘层和/或半导体层电缆的方法和设备无效
| 申请号: | 200510005078.3 | 申请日: | 2005-01-31 |
| 公开(公告)号: | CN1652262A | 公开(公告)日: | 2005-08-10 |
| 发明(设计)人: | 汉斯·瓦尔特·戈切纳 | 申请(专利权)人: | 特勒斯特两合公司 |
| 主分类号: | H01B13/06 | 分类号: | H01B13/06;H01B13/00;H01B7/00 |
| 代理公司: | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人: | 刘激扬 |
| 地址: | 联邦德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 制造 过氧化物 交联 绝缘 半导体 电缆 方法 设备 | ||
【说明书】:
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于特勒斯特两合公司,未经特勒斯特两合公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200510005078.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





