[发明专利]低k和超低k SiCOH介质膜及其制作方法有效
| 申请号： | 200510004304.6 | 申请日： | 2005-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN1645608A | 公开（公告）日： | 2005-07-27 |
| 发明（设计）人： | 斯蒂芬·M.·盖茨;克里斯托斯·D.·迪米特拉克浦斯;阿尔弗雷德·格里尔;桑·范·恩古叶恩 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | H01L23/532 | 分类号： | H01L23/532;H01L21/312;H01L21/31;C23C16/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 搜索关键词： | sicoh 介质 及其 制作方法 | ||
【说明书】：
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