[发明专利]等离子弧涂覆系统

权利要求书

1.一种用于在衬底前进通过等离子弧涂覆系统时加热衬底的装置，包括：

多个热源的二维阵列，这些热源向处在热源阵列中的衬底供给热量；以及

控制器，该控制器控制各热源的工作，以便根据衬底的预定温度分布来加热衬底表面的局部区域。

2.根据权利要求1所述的装置，还包括：多个热源的第二二维阵列，当衬底处在热源阵列中时，来自两个热源阵列的能量导向衬底的相对侧。

3.根据权利要求1所述的装置，还包括：真空腔室，所述两个阵列位于腔室的相对侧。

4.根据权利要求1所述的装置，其中：由各热源发出的能量根据在控制器中执行的程序而随时间变化。

5.根据权利要求1所述的装置，其中：当衬底处于吸收能量的位置时，各热源发出能量。

6.根据权利要求1所述的装置，其中：在衬底进入涂覆站之前对该衬底进行加热。

7.一种用于在衬底前进通过等离子弧涂覆系统时加热衬底的系统，包括：

精细加热器，该精细加热器具有多个热源的第一二维阵列和多个热源的第二二维阵列，当衬底处在热源阵列中时，来自两个热源阵列的能量导向衬底的相对侧；以及

控制器，该控制器控制各热源的工作，以便根据衬底的预定温度分布来加热衬底相应表面的局部区域。

8.根据权利要求7所述的系统，其中：由各热源发出的能量根据在控制器中执行的程序而随时间变化。

9.根据权利要求7所述的系统，其中：精细加热器在衬底进入涂覆站之前对该衬底进行加热。

10.根据权利要求9所述的系统，还包括：粗加热器，该粗加热器在衬底进入精细加热器之前加热该衬底。

11.根据权利要求9所述的系统，还包括：多个温度传感器，该温度传感器确定衬底的温度分布特征。

12.根据权利要求11所述的系统，其中：控制器接收衬底的温度分布，并改变热源的能量输出，以便控制衬底的温度分布。

13.根据权利要求9所述的系统，还包括：第二精细加热器，该第二精细加热器位于第一涂覆站和第二涂覆站之间，该第二精细加热器包括多个热源的第三二维阵列和多个热源的第四二维阵列，来自第三和第四阵列的热源的能量在控制器的引导下导向衬底的相对侧。

14.根据权利要求13所述的系统，还包括：多个温度传感器，这些温度传感器确定衬底的温度分布特征。

15.一种用于在衬底前进通过等离子弧涂覆系统时加热衬底的方法，包括：

当衬底处于热源阵列中时通过多个热源的二维阵列来加热衬底表面；以及

控制各热源的工作，以便根据衬底的预定温度分布来加热衬底表面的局部区域。

16.根据权利要求15所述的方法，还包括：通过多个热源的第二二维阵列来加热衬底的相对侧。

17.根据权利要求15所述的方法，其中：控制步骤包括根据在控制器中执行的程序来随时间改变从各热源发射的能量。

18.根据权利要求15所述的方法，其中：在衬底进入涂覆站之前进行加热。

19.一种用于在衬底前进通过等离子弧涂覆系统时加热衬底的方法，包括：

通过具有多个热源的第一二维阵列和多个热源的第二二维阵列的精细加热器来加热衬底，当衬底处在热源阵列中时，来自两个阵列的热源的能量导向衬底的相对侧；以及

控制各热源的工作，以便根据衬底的预定温度分布来加热衬底相应表面的局部区域。

20.根据权利要求19所述的方法，还包括：根据在控制器中执行的程序而随时间改变由各热源发出的能量。

21.根据权利要求19所述的方法，其中：在衬底进入涂覆站之前进行加热。

22.根据权利要求21所述的方法，还包括：在衬底进入精细加热器之前通过粗加热器来加热该衬底。

23.根据权利要求21所述的方法，还包括：确定衬底的温度分布。