[发明专利]光刻装置,器件制造方法以及所制的器件无效
| 申请号： | 200480039174.3 | 申请日： | 2004-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN1902551A | 公开（公告）日： | 2007-01-24 |
| 发明（设计）人： | M·克鲁恩;M·C·范比克;P·德克森;R·库特;C·M·奥文 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 谭祐祥 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 以及 | ||
【说明书】：
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