[发明专利]新颖超导制品及其形成和使用方法

权利要求书

1.一种超导制品，包括：

基底；

覆在所述基底上的多个超导条片，所述超导条片包括相互邻近的第一和第二超导体条片；以及

使至少所述第一和第二传导条片彼此电气耦合的至少一个传导桥路，其中所述基底具有不小于10的尺寸比。

2.如权利要求1所述的超导制品，其特征在于，所述超导体条片彼此大致平行。

3.如权利要求1所述的超导制品，其特征在于，所述超导体条片相互隔开至少1μm的平均间隙宽度。

4.如权利要求3所述的超导制品，其特征在于，所述平均间隙宽度不少于5μm。

5.如权利要求3所述的超导制品，其特征在于，所述超导体条片相互隔开大致恒定的间隙。

6.如权利要求1所述的超导制品，其特征在于，所述第一和所述第二超导体条片的平均宽度至少为5μm。

7.如权利要求5所述的超导制品，其特征在于，所述第一和第二超导体条片的宽度大致相同。

8.如权利要求1所述的超导制品，其特征在于，所述传导条片彼此大致共平面，从而形成超导体层。

9.如权利要求8所述的超导制品，其特征在于，所述超导体层通过沉积形成以覆在所述基底上。

10.如权利要求8所述的超导制品，其特征在于，所述超导体层经过光刻处理以形成所述超导条片。

11.如权利要求10所述的超导制品，其特征在于，所述光刻处理对所述超导体层的一些部分的移除起作用，并保留所述超导体条片。

12.如权利要求1所述的超导制品，其特征在于，所述至少一个传导桥路包括由超导体材料构成的多个传导桥路。

13.如权利要求12所述的超导制品，其特征在于，所述超导条片和多个传导桥路大致共平面，并由超导材料的形成图案层形成。

14.如权利要求12所述的超导制品，其特征在于，所述传导桥路沿着所述基底长度方向被大致周期性地隔开。

15.如权利要求1所述的超导制品，其特征在于，所述制品每100m基底最少包括一个桥路。

16.如权利要求1所述的超导制品，其特征在于，所述制品每50m基底最少包括一个桥路。

17.如权利要求1所述的超导制品，其特征在于，所述制品每10m基底最少包括一个桥路。

18.如权利要求1所述的超导制品，其特征在于，所述制品每1m基底最少包括一个桥路。

19.如权利要求12所述的超导制品，其特征在于，所述传导桥路沿着所述基底长度方向被大致周期性地隔开。

20.如权利要求1所述的超导制品，其特征在于，还包括覆在所述超导体层上的至少一层传导分流层。

21.如权利要求1所述的超导制品，其特征在于，还包括其上设置有所述超导体层的双轴向织构层。

22.如权利要求21所述的超导制品，其特征在于，所述双轴向织构层包括IBAD层。

23.如权利要求1所述的超导制品，其特征在于，所述超导体条片含有高温超导体。

24.如权利要求23所述的超导制品，其特征在于，所述高温超导体包括REBa₂Cu₃O_7-x，其中RE是稀土元素。

25.如权利要求24所述的超导制品，其特征在于，所述超导体材料包括YBa₂Cu₃O₇。

26.如权利要求1所述的超导制品，其特征在于，所述基底的尺寸比不小于10²。

27.如权利要求1所述的超导制品，其特征在于，所述基底的尺寸比不小于10³。

28.如权利要求1所述的超导制品，其特征在于，所述制品具有超导条带的形式。