[发明专利]气体分配系统

权利要求书

1.一种气体分配装置，包括：

元件，其具有上表面、下表面和外围表面；以及

气体分配网络，其形成在所述元件内，用于将气体均匀送入加工区域，所述气体分配网络包括：

入口通道，其向上延伸通过所述上表面，以连接到气体源；

多个第一通道，所述多个第一通道会聚在一联结点处并在该联结点处与所述入口通道连接，所述第一通道从所述联结点径向向外延伸到所述外围表面；

与所述多个第一通道连接的多个第二通道，所述第二通道不垂直于所述第一通道，并从所述第一通道向外延伸到所述外围表面；和

多个出口通道，所述多个出口通道与所述多个第二通道连接，并向下延伸通过所述下表面，以将气体送入所述加工区域。

2.权利要求1的装置，其中所述元件是圆柱形的整体元件。

3.权利要求1的装置，其中所述多个第一和第二通道是共面的。

4.权利要求1的装置，其中所述多个第二通道的相邻两个通道之间是平行的。

5.权利要求1的装置，其中所述第二通道和与之连接的所述第一通道成约30度到约45度的角度。

6.权利要求5的装置，其中所述第二通道与所述第一通道成约45度的角度。

7.权利要求1的装置，其中连接在共同第一通道两侧的所述第二通道是交错设置的。

8.权利要求1的装置，其中所述第一通道包括四个直角坐标的通道。

9.权利要求1的装置，其中所述第一通道包括六个通道，并且相邻的两个通道形成约60度的角度。

10.权利要求1的装置，其中所述第一通道具有第一直径，所述第二通道具有第二直径，所述出口通道具有出口直径，所述第一直径大于所述第二直径，并且所述第二直径大于所述出口直径。

11.权利要求10的装置，其中所述第一直径选择为处于约5mm到约15mm的范围内，所述第二直径选择为处于约3mm到约12mm的范围内，所述出口直径选择为处于约0.25mm到约2.5mm的范围内。

12.权利要求1的装置，其中所述出口在所述整体元件的下表面上具有基本恒定的密度。

13.权利要求1的装置，其中所述出口通道基本为圆柱形。

14.权利要求1的装置，其中所述出口通道由具有较小直径的第一部分和具有较大直径的第二部分形成。

15.权利要求1的装置，其中所述出口通道具有用于接收插件的螺纹，以改变气体离开所述出口通道的尺寸和/或方向。

16.一种气体分配装置，包括：

整体的圆柱形元件，其具有上表面、下表面和外围表面；以及

两个独立的气体分配网络，其形成在所述整体元件内，每个所述气体分配网络包括：

入口通道，其向上延伸通过所述上表面，以连接到气体源；

多个共面的第一通道，其会聚在一联结点处并在该联结点处与所述入口通道连接，所述第一通道从所述联结点径向向外延伸到所述外围表面；

与所述多个第一通道连接的多个第二通道，所述第二通道与所述第一通道共面并且不垂直于所述第一通道，并从所述第一通道向外延伸到所述外围表面；和

多个出口通道，所述多个出口通道与所述多个第二通道连接，并向下延伸通过所述下表面，以将气体送入所述加工区域，

其中，每个所述气体分配网络的所述第一和第二通道形成在不同高度处，并且所述两个独立的气体分配网络在所述整体元件内没有流体连通。

17.权利要求16的装置，其中每个所述气体分配网络的所述第一通道包括四个直角坐标的通道。

18.权利要求16的装置，其中所述两个气体分配网络中的每个气体分配网络的所述出口通道以交错且均匀的构造延伸通过所述下表面。

19.权利要求16的装置，其中所述两个气体分配网络具有基本相同的尺寸和构造。