[发明专利]铁电膜、半导体装置、铁电膜的制造方法及其制造装置无效
| 申请号： | 200480003650.6 | 申请日： | 2004-02-03 |
| 公开（公告）号： | CN1748264A | 公开（公告）日： | 2006-03-15 |
| 发明（设计）人： | 大见忠弘;高桥一郎;山田敦彦;樱井弘之 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社;大见忠弘 |
| 主分类号： | H01B3/12 | 分类号： | H01B3/12;H01B19/00;H01L21/316;H01L27/10;C23C14/06;C01G35/00 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王怡 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 铁电膜 半导体 装置 制造 方法 及其 | ||
【说明书】：
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