[发明专利]用于铜的受控抛光的组合物和方法无效
| 申请号： | 200410104677.6 | 申请日： | 2004-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN1644640A | 公开（公告）日： | 2005-07-27 |
| 发明（设计）人： | J·G·阿梅恩;R·L·小拉瓦伊;J·匡西;J·K·索;T·M·托马斯;叶倩萩 | 申请（专利权）人： | CMP罗姆和哈斯电子材料控股公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/304 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 蔡胜有 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 受控 抛光 组合 方法 | ||
【权利要求书】：
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于CMP罗姆和哈斯电子材料控股公司，未经CMP罗姆和哈斯电子材料控股公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200410104677.6/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：表面声波器件
- 下一篇：流体泵送及液滴沉积装置
