[发明专利]蒙脱土的插层和表面修饰及使用经插层和表面修饰后的蒙脱土制备聚丁二烯/蒙脱土纳米复合材料的方法无效
| 申请号： | 200410102517.8 | 申请日： | 2004-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN1796465A | 公开（公告）日： | 2006-07-05 |
| 发明（设计）人： | 李杨;徐宏德;吕占霞;朱峰;廖明义;张伟清;田婧 | 申请（专利权）人： | 中国石化北京燕化石油化工股份有限公司 |
| 主分类号： | C09C3/08 | 分类号： | C09C3/08;C08L47/00;C08K9/06;C08F2/44;C08F36/06;C08F4/48 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 刘金辉 |
| 地址： | 102500*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 蒙脱土 表面 修饰 使用 经插层 土制 丁二烯 纳米 复合材料 方法 | ||
【权利要求书】：
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