[发明专利]抗蚀剂残渣去除液组合物及半导体电路元件的制造方法无效
| 申请号： | 200410100602.0 | 申请日： | 2004-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN1645259A | 公开（公告）日： | 2005-07-27 |
| 发明（设计）人： | 川本浩;宫里美季江;大和田拓央;石川典夫 | 申请（专利权）人： | 关东化学株式会社;株式会社东芝 |
| 主分类号： | G03F7/26 | 分类号： | G03F7/26;G03F7/30;H01L21/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂 残渣 去除 组合 半导体 电路 元件 制造 方法 | ||
【说明书】：
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