[发明专利]光致抗蚀剂显影剂组合物有效
| 申请号： | 200310115315.2 | 申请日： | 2003-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN1503064A | 公开（公告）日： | 2004-06-09 |
| 发明（设计）人： | 朴赞硕;金吉来;朴春镐;金敬娥 | 申请（专利权）人： | 东进半导体化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32;G02F1/136;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王达佐;刘玉华 |
| 地址： | 韩国仁*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂 显影剂 组合 | ||
【说明书】：
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