[发明专利]具有减少基片上聚合物沉积部件的等离子体装置以及减少聚合物沉积的方法有效
| 申请号： | 03822266.3 | 申请日： | 2003-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN1682343A | 公开（公告）日： | 2005-10-12 |
| 发明（设计）人： | J·东;E·H·伦兹 | 申请（专利权）人： | 兰姆研究公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王彦斌 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 具有 减少 基片上 聚合物 沉积 部件 等离子体 装置 以及 方法 | ||
【权利要求书】：
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