[发明专利]双折射薄膜的制备方法无效
| 申请号: | 03809362.6 | 申请日: | 2003-04-24 |
| 公开(公告)号: | CN1650198A | 公开(公告)日: | 2005-08-03 |
| 发明(设计)人: | 吉见裕之;西小路祐一;村上奈穗;林政毅 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
| 主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;G02F1/13363;B32B27/08;B32B7/02 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 于辉 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 双折射 薄膜 制备 方法 | ||
【权利要求书】:
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日东电工株式会社,未经日东电工株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/03809362.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:自适应天线矩阵的智能接口
- 下一篇:移动通信系统





