[发明专利]改进的具有精确边界点检测的化学机械抛光系统

权利要求书

1.一种用于抛光一工件的装置，该装置包括：

一个工件夹具，其被构造成能够夹持该工件的结构形式；

一个抛光元件，其被构造成能够设置在工件的一表面附近以便通过该抛光元件的一正面抛光该工件表面的结构形式；以及

一个具有多个压力区的压板，该压板被构造成能够选择性地向所述抛光元件施加压力从而使抛光元件在选择的压力作用下接触该工件表面的结构形式。

2.根据权利要求1所述的装置，还包括：

一个与所述压板相连的压力控制器，该压力控制器被构造成能够选择性地调节所述压力区的结构形式。

3.根据权利要求2所述的装置，还包括：

一个传感器，该传感器与至少一个压力区相联，而且被构造成能够检测工件表面的性质并响应于该性质产生一传感器信号的结构形式；以及

其中所述压力控制器被构造成能够使压力区至少部分根据各个传感器信号而选择性地向所述抛光元件施加压力的结构形式。

4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于：

所述的抛光元件是一个光学透明的抛光元件并且可沿一个或者多个方向移动；以及

所述的传感器响应于一个可在工件表面进行反射的光源。

5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，所述的光学透明抛光元件包括一复合结构。

6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述的抛光元件被构造成能够沿双向移动的结构形式。

7.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，所述的压力控制器能够向一压力区施加负压力和正压力。

8.根据权利要求3所述的装置，还包括多个位于压力区之间的排放孔，该排放孔使压力区之间的流体流排出。

9.根据权利要求8所述的装置，其特征在于，所述的排放孔与大气相通。

10.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述的抛光元件被构造成能够通过双向移动抛光工件的结构形式。

11.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，流到多个压力区中的流体通过使用含有一旋转流量计和含有质量流量控制器的组之一受到控制。

12.根据权利要求1所述的装置，还包括：

一柔软的阻挡层，该阻挡层位于所述压板之上以便在工件表面和压板表面之间产生一衬垫。

13.根据权利要求12所述的装置，其特征在于，所述压力区在所述阻挡层上是连续的。

14.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，

所述压板包括与压力区相联的流体供给孔，所述的压力区能够向所述抛光元件的背面提供流体，所述流体供给孔以多组方式设置，每组都包括一不同数量的孔，而且在至少两个相邻孔之间的一压力差使工件表面的相应的不同区域上产生一不同的抛光率。

15.根据权利要求14所述的装置，其特征在于，所述的抛光元件是一柔性抛光元件。

16.根据权利要求14所述的装置，其特征在于，可对从下述组中选择出的不同尺寸的工件进行抛光：

一具有200mm直径的工件；

一具有300mm直径的工件；

一具有400mm直径的工件；以及

一具有500mm直径的工件。

17.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，

所述抛光元件被构造成能够相对所述压板移动的结构形式；以及

所述压板具有多个用于产生压力区的流体供给孔，而且所述流体供给孔被构造成能够向抛光元件的背面供给流体以便向所述抛光元件选择性地施加压力的结构形式。

18.根据权利要求17所述的装置，其特征在于，

所述压板具有多个位于所述压力区附近的放泄孔，而且所述放泄孔被构造成能够选择性地降低压力区内的压力的结构形式。