[发明专利]光刻装置，器件制造、性能测量及校准方法和计算机程序有效
| 申请号： | 03140753.6 | 申请日： | 2003-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN1461976A | 公开（公告）日： | 2003-12-17 |
| 发明（设计）人： | J·海恩策 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;G06F9/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 崔幼平 |
| 地址： | 荷兰维尔*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 性能 测量 校准 方法 计算机 程序 | ||
【权利要求书】：
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