[发明专利]用于形成防反射膜的涂布液组合物、光刻胶层合体以及光刻胶图案的形成方法无效
| 申请号： | 03136946.4 | 申请日： | 2003-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN1460894A | 公开（公告）日： | 2003-12-10 |
| 发明（设计）人： | 胁屋和正;久保田尚孝;横井滋;原口高之 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/023 | 分类号： | G03F7/023;G03F7/00;C09D5/00;C09K3/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 杨宏军 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 形成 反射 涂布液 组合 光刻 合体 以及 图案 方法 | ||
【说明书】：
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