[发明专利]微细图形形成材料、微细图形形成法及半导体装置的制法无效
| 申请号： | 03127424.2 | 申请日： | 2003-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN1495525A | 公开（公告）日： | 2004-05-12 |
| 发明（设计）人： | 石桥健夫;丰岛利之;寺井护;樽谷晋司 | 申请（专利权）人： | 株式会社瑞萨科技 |
| 主分类号： | G03F7/038 | 分类号： | G03F7/038;G03F7/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 钟守期;庞立志 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 微细 图形 形成 材料 半导体 装置 制法 | ||
【说明书】：
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