[发明专利]在使用具有预数值孔径控制的照射系统的光刻装置中改善线宽控制的系统和方法有效
| 申请号： | 03122236.6 | 申请日： | 2003-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN1453643A | 公开（公告）日： | 2003-11-05 |
| 发明（设计）人： | 斯科特·D·考斯顿;詹姆斯·G·查考耶尼斯 | 申请（专利权）人： | ASML美国公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/00;G03F9/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 使用 具有 数值孔径 控制 照射 系统 光刻 装置 改善 方法 | ||
【权利要求书】：
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