[发明专利]在综合处理系统中用于等离子搀杂和离子注入的方法和装置无效
申请号: | 02823322.0 | 申请日: | 2002-10-17 |
公开(公告)号: | CN1592944A | 公开(公告)日: | 2005-03-09 |
发明(设计)人: | 史蒂文·R·沃尔特 | 申请(专利权)人: | 瓦里安半导体设备联合公司 |
主分类号: | H01J37/317 | 分类号: | H01J37/317;H01J37/32;H01L21/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 过晓东 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 综合 处理 系统 用于 等离子 搀杂 离子 注入 方法 装置 | ||
【权利要求书】:
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瓦里安半导体设备联合公司,未经瓦里安半导体设备联合公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/02823322.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:移动终端和运动图像记录/再现系统
- 下一篇:具有运动控制装置的鞋类产品