[发明专利]真空成膜装置及真空成膜方法有效
| 申请号： | 02821406.4 | 申请日： | 2002-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN1578847A | 公开（公告）日： | 2005-02-09 |
| 发明（设计）人： | 宇津木功二;山本博规;宫地麻里子;三浦环;森满博;坂内裕;山崎伊纪子 | 申请（专利权）人： | 日本电气株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/56;H01M4/04 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李香兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 真空 装置 方法 | ||
【说明书】：
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