[发明专利]用于旋转刻蚀平面化电子部件的平面化层及其使用方法无效
| 申请号： | 02803987.4 | 申请日： | 2002-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN1488170A | 公开（公告）日： | 2004-04-07 |
| 发明（设计）人： | S·穆克赫尔吉;J·莱维尔特;D·穆贝尔 | 申请（专利权）人： | 霍尼韦尔国际公司 |
| 主分类号： | H01L23/48 | 分类号： | H01L23/48 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 吴立明;梁永 |
| 地址： | 美国新*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 旋转 刻蚀 平面化 电子 部件 及其 使用方法 | ||
【说明书】：
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