[发明专利]层流电弧等离子体射流的材料表面处理方法无效
| 申请号： | 02150521.7 | 申请日： | 2002-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN1501761A | 公开（公告）日： | 2004-06-02 |
| 发明（设计）人： | 吴承康;潘文霞;马维 | 申请（专利权）人： | 中国科学院力学研究所 |
| 主分类号： | H05H1/32 | 分类号： | H05H1/32;C21D1/08;C23C4/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 方国成 |
| 地址： | 100080*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 层流 电弧 等离子体 射流 材料 表面 处理 方法 | ||
【说明书】：
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