[发明专利]一种制备氧化钒薄膜的方法

权利要求书

1.一种制备氧化钒薄膜的方法，依次包括以下步骤：

(1)衬底表面清洗；

(2)溅射钒膜，其流程为：

    (2.1)充入氩气至安放衬底的真空室，分别采用平行粒子束、聚焦粒子

         清洗衬底和耙材；

    (2.2)溅射镀制钒膜，直至镀膜结束；

(3)氧化扩散和后退火，其流程为：

    (3.1)在氩气气氛下加热退火炉，升温后充入氧气，氧气和氩气的流

         量比为1∶10～10∶1；

    (3.2)对步骤(2)所镀制的钒膜加以氧化，制备氧化钒薄膜；

    (3.3)钒膜氧化充分后，关闭氧气阀，氧化钒膜在纯氩气中退火；

    (3.4)退火结束后，关闭退火炉，氧化钒薄膜在氩气环境内冷却至室

         温。

2.根据权利要求1所述的制备氧化钒薄膜的方法，其特征在于：所述步骤(3.1)中氧气和氩气的流量比为1∶2～2∶1。

3.根据权利要求1或2所述的制备氧化钒薄膜的方法，其特征在于：所述步骤(3.1)中升温温度为350℃～500℃。