[发明专利]滤色片基板和电光装置、及其制造方法和电子设备有效
申请号: | 02123929.0 | 申请日: | 2002-07-10 |
公开(公告)号: | CN1397820A | 公开(公告)日: | 2003-02-19 |
发明(设计)人: | 瀧澤圭二;中野智之 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | G02F1/133 | 分类号: | G02F1/133;G02F1/136;G02F1/1335;G02B5/20 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 段承恩,陈海红 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 滤色片基板 电光 装置 及其 制造 方法 电子设备 | ||
1.一种滤色片基板,其特征在于,在该滤色片基板中具备:
基板;
配置在上述基板上,而且具有实质上光可以透过的透过部分的反射层,和至少与上述反射层平面地重叠地配置,并且具有厚层厚部分的着色层,
上述反射层在上述透过部分周边具有反射部分,
上述厚层厚部分被配置为平面地重叠到上述透过部分上,
上述厚层厚部分的厚度,比上述着色层的对应上述反射部分的位置的部分的厚度和上述反射部分的厚度之和还厚。
2.根据权利要求1所述的滤色片基板,其中上述透过部分是设置在上述反射层的开口部分,在除上述开口部分之外的上述反射层与上述着色层之间,具备实质上光可以透过的透光层。
3.根据权利要求2所述的滤色片基板,其特征在于,上述透光层具有使光漫反射的漫反射功能。
4.根据权利要求1所述的滤色片基板,其中上述透过部分是设置在上述反射层上的开口部分,在除上述开口部分之外的上述反射层和上述基板之间具备基底层。
5.根据权利要求4所述的滤色片基板,其特征在于,上述基底层的表面具有凹凸,上述反射层具有使光进行漫反射的微细的凹凸。
6.根据权利要求1所述的滤色片基板,其特征在于,上述基板具有凹部,上述厚层厚部分被配置为平面地重叠到上述凹部内。
7.一种滤色片基板,其特征在于,在该滤色片基板中具备:
基板;
配置在上述基板上并且具有厚层厚部分的着色层,
上述厚层厚部分的厚度比其它的部分厚。
8.根据权利要求7所述的滤色片基板,其中在上述基板和除上述厚层厚部分之外的上述着色层之间具备实质上可以透过光的透光层。
9.根据权利要求7所述的滤色片基板,其特征在于,上述基板具有凹部,上述厚层厚部分被配置为平面地重叠到上述凹部上。
10.一种电光装置,其特征在于,在该电光装置中具备:
含有电光物质的电光层;
支持上述电光层的基板;
配置在上述基板上,且具有实质上可以透过光的透过部分的反射层,和被配置为至少平面地重叠到上述反射层上,且具有厚层厚部分的着色层;
上述反射层在上述透过部分周边,具有反射部分,
上述厚层厚部分被配置为平面地重叠到上述透过部分上,
上述厚层厚部分的厚度比上述着色层的对应上述反射部分位置的部分的厚度和上述反射部分的厚度之和还厚。
11.一种电光装置,其特征在于,在该电光装置中具备:
含有电光物质的电光层;
支持上述电光层的第1基板;
配置在上述第1基板上,且具有实质上光可以透过的透过部分的反射层;
与上述第1基板相对配置的第2基板;
和被配置到上述第2基板上,且具有比其它的部分厚的厚层厚部分的着色层;
上述厚层厚部分被配置为平面地重叠到上述透过部分上。
12.一种电光装置,其特征在于,在该电光装置中具备:
含有电光物质的电光层;
支持上述电光层的第1基板;
配置在上述第1基板上,且具有实质上光可以透过的透过部分的反射层;
被配置为至少平面地重叠到上述反射层上的第1着色层;
与上述第1基板相对配置的第2基板;
和配置在上述第2基板上的第2着色层,
上述反射层在上述透过部分周边,具有反射部分,
上述第1着色层被配置为至少平面地重叠到上述透过部分和上述反射部分上,
上述第2着色层被配置为至少平面地重叠到上述透过部分上。
13.一种滤色片基板的制造方法,在该滤色片的制造方法中,其特征在于,具备:
在基板上边局部地形成绝缘层的工序,
在上述绝缘层的形成区域上边和上述绝缘层的非形成区域上边形成着色层的工序。
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