[发明专利]用于光致抗蚀剂溶解液的消泡剂组合物

说明书

技术领域

本发明涉及用于光致抗蚀剂溶解液的消泡剂组合物、添加该消泡剂组合物而得到的光致抗蚀剂溶解液、以及使用该光致抗蚀剂溶解液的光致抗蚀剂溶解方法。

背景技术

很早以来，印刷电路的形成、引线框架等的金属加工、等离子显示屏的间壁形成加工、基材的保护材料都使用着光致抗蚀剂。在使用光致抗蚀剂时，使用了光致抗蚀剂溶解液，已知主要的光致抗蚀剂溶解液有显象液和剥离液。

光致抗蚀剂，用活化射线照射后，未曝光部分和曝光部分产生对显象液的溶解性差异，使用显象液的目的是为了除去显示溶解性的部分。被活化射线照射后，光致抗蚀剂中对显象液不溶解的部分在基材上形成被膜，对于经显象后除去光致抗蚀剂而露出的基材可进行浸蚀、镀层等加工，被膜覆盖的部分被保护而发挥抗蚀膜的性能。

剥离液，是为了从基材上除去加工中所用的光致抗蚀剂被膜而使用的。

可以使用各种光致抗蚀剂溶解液，除了以往所使用的有机溶剂外，还大量使用近年环境保护所要求的碱性溶液，特别是碱水溶液。

光致抗蚀剂的溶解方法包括通过将光致抗蚀剂溶解液滴下、淋浴或喷洒到光致抗蚀剂表面的方法和浸渍在光致抗蚀剂溶解液中的方法。这些方法都可以使光致抗蚀剂溶解液循环使用，然而喷洒方法容易发泡，所以需要使用消泡剂。

作为消泡剂，一般认为有机硅系物质的消泡效果好。可是，在光致抗蚀剂的显象工序、剥离工序中，由于有机硅的高被覆力及疏水作用，在显象后的基材加工工序、剥离后的后处理工序中，会产生各种的问题，因而很少使用。因此，以往的消泡剂使用了聚氧亚烷基一醇或其酯化物、以及在高级脂肪酸上加成环氧烷的化合物等。这些技术公开在，特开平7-128865号公报、特开平7-319170号公报、特开平8-10600号公报、特开平8-160632号公报、特开平9-87380号公报、特开平9-87381号公报、特开平9-87382号公报、特开平9-293964号公报、特开平10-319606号公报、特开平11-258820号公报、特开平11-352700号公报。

由于光致抗蚀剂溶解液可循环使用，所以在长时间地使用显象装置和剥离装置等的处理装置时，渐渐地光致抗蚀剂的不溶解的成分析出，或者不同类型的消泡剂与光致抗蚀剂成分发生作用，产生油状物和凝胶状物(以下称为凝聚物)。凝聚物附着在基材的表面或处理槽、配管、泵等上，有时也固化。在除去附着在处理槽、配管、泵等上的凝聚物时，可以采用剥落或者解体清扫等的费事的作业。另外，由于油状物或凝聚物附着在基材上，造成加工部分的缺陷并成为短路的原因，或残留在未被保护而露出的表面上，成为后工序接合不良的原因。

随着近年来的印刷电路的宽度、引线框架间距、等离子显示屏的间壁等的微型化，光致抗蚀剂溶解液的处理装置中喷洒方式成为主流。该方法中，为了确实地除去溶解的部分，大多采用提高喷射压的方法，所以光致抗蚀剂溶解液容易发泡，需要具有充分效果的消泡剂。另外，随着微型化，在显象后所形成的光致抗蚀剂被膜模板的间隙也变狭窄，除去产生的凝聚物变得困难，所以抑制凝聚物的发生越来越重要了。

可是，用于显象液和剥离液的以往的消泡剂中，酯系的消泡剂，在碱浓度高的状态下，因发生水解而使其持续效果差。失去消泡剂的作用时，光致抗蚀剂溶解液的发泡现象严重，并且引起处理装置的停止，会产生生产率下降，需要不断地更换光致抗蚀剂溶解液，使得成本提高。

另外，以往的醚系消泡剂，虽然具有消泡效果，但是在光致抗蚀剂溶解液中的分散性差，与溶解在显象液或剥离液中的光致抗蚀剂成分作用，凝聚物的产生更加显著。成为制品不良的原因。

另一方面，光致抗蚀剂对应于上述的微型化，要求高解像性。为了提高光致抗蚀剂的解像度，在组合物中作为光聚合性单体使用了多官能的单体，但是多官能的单体大多是疏水性结构，根据添加量不同，析出或成为油状物，通过与消泡剂的上述作用成为凝聚物。特别是聚氨酯系单体中可以显著地看到凝聚物的发生。

即，以往的消泡剂，还没有发现兼备凝聚物发生少和消泡效果充分的性能，对于添加了以往消泡剂的光致抗蚀剂溶解液及使用该溶液的方法，不能改善由于发泡而造成的生产率下降及成本上升、由于凝聚物的发生而产生不合格品的情况，而且，很难得到光致抗蚀剂的高解像度。

发明内容

本发明的目的在于提供用于光致抗蚀剂溶解液的兼备凝聚物发生少和消泡效果充分的性能的消泡剂组合物、添加了该消泡剂组合物的光致抗蚀剂溶解液、以及使用该光致抗蚀剂溶解液的光致抗蚀剂溶解方法。