[发明专利]溶剂组合物和用于光学记录介质的涂布液无效

专利信息
申请号: 02118631.6 申请日: 2002-04-23
公开(公告)号: CN1382750A 公开(公告)日: 2002-12-04
发明(设计)人: 冈本秀一 申请(专利权)人: 旭硝子株式会社
主分类号: C09D5/32 分类号: C09D5/32;G03G5/00
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 沙永生
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 溶剂 组合 用于 光学 记录 介质 涂布液
【权利要求书】:

1.一种溶剂组合物,它包含(A)2-(三氟甲基)-2,3,3-三氟丙醇和(B)2,2,3,4,4,4-六氟丁醇,其中(A)/(B)质量比为0.5/99.5-99.5/0.5。

2.如权利要求1所述的溶剂组合物,其特征在于所述的(A)/(B)质量比为1/99-60/40。

3.如权利要求1或2所述的溶剂组合物,其特征在于它还含有激光吸收染料,其中激光吸收染料的含量以质量计占所述的溶剂组合物总量的0.1-10%。

4.用于光学记录介质的涂布液,它包含权利要求1所述的溶剂组合物和溶解于该组合物中的激光吸收染料。

5.如权利要求4所述的用于光学记录介质的涂布液,其特征在于所述的激光吸收染料是在400-900纳米的波长范围内具有吸光性和摩尔吸光系数为103-106厘米-1的染料。

6.如权利要求4或5所述的用于光学记录介质的涂布液,其特征在于所述的激光吸收染料是花青染料、酞菁染料或含金属的偶氮染料。

7.如权利要求4、5或6所述的用于光学记录介质的涂布液,其特征在于所述的激光吸收染料的含量以质量计占所述的涂布液总量的0.1-10%。

8.光学记录介质的制造方法,它包括用旋涂法将权利要求4所述的涂布液涂布在树脂基片上,然后干燥。

9.如权利要求8所述的方法,其特征在于所述的旋涂法的旋转速度为500-10,000转/分。

10如权利要求8或9所述的方法,其特征在于所述的干燥后的涂膜厚度为30-300纳米。

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