[发明专利]放射成像设备和放射成像方法无效
| 申请号: | 02118014.8 | 申请日: | 2002-04-19 |
| 公开(公告)号: | CN1391870A | 公开(公告)日: | 2003-01-22 |
| 发明(设计)人: | 小嶋进一;梅垣菊男;冈崎隆司;雨宫健介;北口博司;上野雄一郎 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立制作所 |
| 主分类号: | A61B6/03 | 分类号: | A61B6/03;G01T1/00 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 李德山 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 放射 成像 设备 方法 | ||
1.一种放射成像设备,包括:
一用于发射X射线的X射线源装置;以及
多个辐射检测器,用于输出第一检测信号,所述第一检测信号是通过受检者的所述X射线的检测信号;和第二检测信号,所述第二检测信号是从受检者发出的γ射线的检测信号。
2.如权利要求1所述的放射成像设备,还包括一断层图像数据产生装置,其根据所述第一检测信号产生受检者的第一断层图像数据,和根据所述第二检测信号产生所述受检者的第二断层图像数据,并产生组合所述第一断层图像数据和所述第二断层图像数据的熔合的断层图像数据。
3.如权利要求1或2所述的放射成像设备,还包括一控制器,用于指令所述X射线源装置交替地发射和停止发射X射线,并在一设定的时间内发射X射线。
4如权利要求1所述的放射成像设备,其中所述辐射检测器或者是半导体辐射检测器或者是闪烁器。
5.如权利要求1所述的放射成像设备,其中所述图像拾取装置具有面向设置成环形的所述辐射检测器设置的准直器,所述准直器被设置在所述辐射检测器的内部。
6.一种放射成像设备,包括:
一用于发射X射线的X射线源装置;以及
多个辐射检测器,用于输出一输出信号,所述输出信号包括第一检测信号,所述第一检测信号是通过受检者的所述X射线的检测信号;和第二检测信号,所述第二检测信号是从受检者发出的γ射线的检测信号。
7.如权利要求6所述的放射成像设备,还包括多个和所述各个辐射检测器相连的信号识别器,其从送入的所述输出信号中分离出所述第一检测信号和所述第二检测信号。
8.如权利要求6或7所述的放射成像设备,还包括一断层图像数据产生装置,其根据所述第一检测信号产生所述受检者的第一断层图像数据,和根据所述第二检测信号产生所述受检者的第二断层图像数据,并产生组合所述第一断层图像数据和所述第二断层图像数据的熔合的断层图像数据。
9.如权利要求6所述的放射成像设备,其中所述辐射检测器或者是半导体辐射检测器或者是闪烁器。
10.一种放射成像设备,包括:
一用于发射X射线的X射线源装置;以及
多个第一辐射检测器,用于输出一输出信号,所述输出信号包括第一检测信号,所述第一检测信号是通过受检者的所述X射线的检测信号;和第二检测信号,所述第二检测信号是从受检者发出的γ射线的检测信号;
多个第二辐射检测器,用于输出一输出信号,所述输出信号包括作为所述X射线的检测信号的第一检测信号和作为所述γ射线的检测信号的第二检测信号;
一信号处理器,其根据所述第一辐射检测器的输出信号计算所述第一检测信号的强度;
一信号识别器,其从所述第二辐射检测器的输出信号中分离所述第二检测信号;以及
一计数器,其计算被所述信号识别器分离的第二检测信号的计数率。
11.如权利要求10所述的放射成像设备,还包括一断层图像数据产生装置,用于根据所述第一检测信号的强度产生所述受检者的第一断层图像数据,和根据所述第二检测信号的计数率产生所述受检者的第二断层图像数据,并产生组合所述第一断层图像数据和所述第二断层图像数据的熔合的断层图像数据。
12.一种放射成像设备,包括:
一配备有床的受检者保持装置,其可以沿纵向运动,以便运送受检者;以及
一图像拾取装置,
其中所述图像拾取装置包括:
一辐射检测器环状结构,其围绕着所述床被引入的区域,并包括多个辐射检测器;
一X射线源,其利用X射线照射所述受检者;以及
一X射线源传送装置,用于沿所述辐射检测器环状结构的圆周方向传送所述X射线源;以及
所述各个辐射检测器输出第一检测信号,其是通过所述受检者的所述X射线的检测信号;和第二检测信号,其是从所述受检者发出的γ射线的检测信号。
13.如权利要求12所述的放射成像设备,还包括一断层图像数据产生装置,用于根据所述第一检测信号产生所述受检者的第一断层图像数据,和根据所述第二检测信号产生所述受检者的第二断层图像数据,并产生组合所述第一断层图像数据和所述第二断层图像数据的熔合的断层图像数据。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立制作所,未经株式会社日立制作所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/02118014.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





