[发明专利]旋转涂敷方法与设备,及用于该方法与设备的掩模无效

专利信息
申请号: 02117437.7 申请日: 2002-04-19
公开(公告)号: CN1386588A 公开(公告)日: 2002-12-25
发明(设计)人: 金子幸生;野口荣作;三船裕喜;宇佐美守;亚田智树 申请(专利权)人: TDK株式会社
主分类号: B05D1/30 分类号: B05D1/30
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 马江立,吴鹏
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 旋转 方法 设备 用于
【权利要求书】:

1.一种旋转涂敷方法,包括向安装在用于驱转盘体的旋转器上的盘体的中心附近提供可辐射硬化的液体材料,驱转盘体并通过离心力使所述液体材料在盘体上散布,从而在盘体表面形成所述液体材料的涂层膜,其特征在于这样的步骤,即在旋转涂敷期间盘体旋转停止之前,向盘体施加具有使可辐射硬化的液体材料硬化的作用的辐射,并降低作为涂层施涂到盘体上的液体材料的流动性。

2.根据权利要求1的旋转涂敷方法,还包括这样的步骤,即在涂敷之前使用一掩模部件覆盖所述盘体中心部分附近的部分,且其特征在于,所述可辐射硬化的液体材料提供给所述掩模部件,并且在降低所述材料流动性的步骤当向盘体施加所述辐射时,该辐射不施加到所述掩模部件上。

3.根据权利要求1的旋转涂敷方法,还包括这样的步骤,即在降低所述材料流动性的步骤之前,剥离溢出盘体外周边缘的所述可辐射硬化的液体材料。

4.根据权利要求1的旋转涂敷方法,其特征在于降低所述材料流动性的步骤是暂时硬化步骤,该步骤使作为涂层施涂到盘体上的液体材料硬化到一定程度,且该旋转涂敷方法还包括这样的步骤,在一旦停止盘体的旋转之后,把盘体从旋转器移动到另一地方,并在那里向盘体施加具有使所述可辐射硬化的液体材料硬化的作用的辐射,并实现主硬化,以便对作为涂层施加到盘体的液体材料进行完全硬化。

5.根据权利要求4的旋转涂敷方法,其特征在于,在实现所述主硬化的步骤时,所述盘体在被驱转的同时作直线运动,并穿过发射所述辐射的辐射源的辐照区,从而使盘体上的液体材料硬化。

6.一种受到使用根据权利要求1到5任何一项的旋转涂敷方法涂敷的盘体。

7.根据权利要求6的盘体,该盘体是使用蓝色激光的盘,且其中所述涂敷膜形成其透光层。

8.一种旋转涂敷设备,它包括:

用于夹持并驱转盘体的旋转器机构;

用于把可辐射硬化的液体材料提供给由所述旋转器机构夹持的所述盘体的中心附近的配撒器机构;以及

用于向由所述旋转器机构夹持的所述盘体施加具有使所述可辐射硬化的液体材料硬化的作用的辐射的辐射施加装置;

其特征在于,在所述可辐射硬化的液体材料由所述配撒器机构提供给由所述旋转器机构夹持的所述盘体中心附近之后,盘体由所述旋转器机构驱转,从而所述液体材料在盘体上散布,并在盘体上形成所述液体材料涂敷膜,此后无需由旋转器机构停止盘体的旋转,而是保持盘体旋转,操作所述辐射施加装置并降低盘体上液体材料的流动性。

9.根据权利要求8的旋转涂敷设备,还包括掩模部件提供装置,用于向夹持在所述旋转器机构上的所述盘体提供用于覆盖所述盘体中心部分附近部分的掩模部件,且其特征在于,所述配撒器机构向安装在所述盘体上的掩模部件提供所述可辐射硬化的液体材料,在所述辐射施加装置的辐射施加区设计成,使得辐射不施加到安装在所述盘体上的掩模部件。

10.根据权利要求8的旋转涂敷设备,还包括边缘清理装置,用于在从所述辐射施加装置施加辐射之前,从盘体剥离从盘体外周边缘溢出的可辐射硬化的液体材料。

11.根据权利要求8的旋转涂敷设备,其特征在于,所述辐射施加装置是暂时硬化辐射施加部分,用于使盘体上的可辐射硬化的液体材料涂敷膜硬化到一定程度,且该设备还包括主硬化辐射施加部分,用于在旋转器机构以外使所述盘体上可辐射硬化的液体材料涂敷膜完全硬化。

12.根据权利要求11的旋转涂敷设备,其特征在于,所述主硬化辐射施加部分具有一辐射施加单元,用于向预定的施加区域施加具有使所述可辐射硬化的液体材料硬化的作用的辐射,以及一盘体移动机构,用于在驱转盘体的同时直线移动所述盘体,并使盘体通过所述辐射施加单元的施加区域。

13.一种受到由根据权利要求8到12任何一项的设备涂敷的盘体。

14.根据权利要求13的盘体,该盘体是使用蓝色激光的盘,且其特征在于,由所述旋转涂敷设备作为涂层施涂的所述液体材料用于形成其透光层。

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