[发明专利]气体净化处理设备和方法无效
| 申请号: | 02116606.4 | 申请日: | 2002-04-09 |
| 公开(公告)号: | CN1386563A | 公开(公告)日: | 2002-12-25 |
| 发明(设计)人: | 左莉;侯立安 | 申请(专利权)人: | 左莉;侯立安 |
| 主分类号: | B01D53/00 | 分类号: | B01D53/00;B01D53/74 |
| 代理公司: | 北京科龙环宇专利事务所 | 代理人: | 孙皓晨,王国权 |
| 地址: | 100011 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 气体 净化 处理 设备 方法 | ||
1、一种气体净化处理设备,包括:
一个风机,用于吸入气态污染物;
一个低温等离子体发生器,产生等离子体,对风机吸入气态污染物进行低温等离子体进化处理;
一个过滤层,对经过等离子体净化处理的气体进行过滤,过滤剩余的有害气体;
一个负离子发生器,对过滤后的气体进行负离子处理,增加空气质量。
2、根据权利要求1所述的设备,其中所述的低温等离子体发生器是介质阻挡层放电等离子体发生器,包括脉冲电源、针状电极、平板电极和陶瓷绝缘片,其中,针状电极与平板电极之间的距离为2-20mm。
3、根据权利要求1所述的设备,其中低温等离子体发生器是电晕放电等离子体发生器,包括脉冲电源、针状电极、平板电极,其中,针状电极与平板电极之间的距离为2-20mm。
4、根据权利要求1所述的设备,其中所述的过滤层是吸附一氧化碳和二氧化碳的吸附层。
5、根据权利要求4所述的设备,其中所述的吸附层由霍加拉特和氢氧化钠等材料复合形成
6、根据权利要求2、3所述的设备,其中所述针状电极与平板电极之间的距离为3-10mm。
7、根据权利要求2、3所述的设备,其中所述针状电极与平板电极之间的距离为8mm。
8、一种气体净化处理方法,包括以下步骤:
吸入气态污染物;
对风机吸入气态污染物进行低温等离子体进化处理;
对经过等离子体净化处理的气体进行过滤,过滤剩余的有害气体;
对过滤后的气体进行负离子处理,增加空气质量。
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