[发明专利]牙用组合物中的非均相二氧化硅

权利要求书

1.一种包含至少两种二氧化硅级分的二氧化硅，其中所述至少两种二氧化硅级分在它们的BET表面积，CTAB表面积和DBP吸收三项数值方面，至少有一项数值相差至少10％。

2.权利要求1所述的二氧化硅，它是呈平均直径大于80μm的颗粒形状。

3.权利要求1和2之任一项所述的二氧化硅，其均具有以下的物理化学数据

    BET表面积        30-300m²/g

    CTAB表面积       30-300m²/g

    DBP吸收          80-300g/100g。

4.权利要求1-3之任一项的二氧化硅，其中的一种二氧化硅级分在所述二氧化硅中的相应的含量是5-95wt％。

5.权利要求1-4之任一项的二氧化硅，其中一种或一种以上二氧化硅级分包含有沉淀二氧化硅。

6.权利要求1-5之任一项的二氧化硅，其中二氧化硅级分由借助一种酸使硅酸盐沉淀而制备，并对所得的沉淀悬浮体进行混合。

7.权利要求1-5之任一项的二氧化硅，其中二氧化硅级分由借助酸使硅酸盐沉淀的方法制备，对沉淀悬浮体进行过滤，并使所得的滤瓶进行混合。

8.权利要求1-5之任一项的二氧化硅，其中二氧化硅级分由借助酸使硅酸盐沉淀的方法制备，使滤饼或预先干燥好的二氧化硅液化，并使所得的悬浮体进行混合。

9.权利要求1-4之任一项的二氧化硅，其中一种或一种以上的二氧化硅级分包含热解二氧化硅。

10.权利要求1-5和9之任一项的二氧化硅，其中二氧化硅级分以干燥状态进行混合。

11.一种包含至少两种二氧化硅级分的二氧化硅的制备方法，该方法包括使如下至少两种的二氧化硅级分彼此进行混合，即它们的BET表面积，CTAB表面积和DBP吸收三项数值中至少有一项数值会相差至少10％。

12.权利要求11所述之方法，其中二氧化硅是呈具有平均直径大于80μm的颗粒形状。

13.权利要求11和12之任一项的方法，其中二氧化硅均具有如下的物理化学数据：

    BET表面积        30-300m²/g

    CTAB表面积       30-300m²/g

    DBP吸收          80-300g/100g

14.权利要求11-13之任一项的方法，其中一种二氧化硅级分在所述二氧化硅中的相应含量是5-95wt％。

15.权利要求11-14之任一项的方法，其中一种或一种以上的二氧化硅级分包括沉淀二氧化硅。

16.权利要求11-15之任一项的方法，其中二氧化硅级分由借助酸使硅酸盐沉淀的方法制备，并使所得的沉淀悬浮体进行混合。

17.权利要求11-15之任一项的方法，其中二氧化硅级分由借助酸使硅酸盐沉淀的方法制备，将沉淀悬浮体进行过滤，并使所得滤饼进行混合。

18.权利要求11-15之任一项的方法，其中二氧化硅级分由借助酸使硅酸盐沉淀的方法制备，使滤饼或预先干燥了的二氧化硅液化，并使所得的悬浮体进行混合。

19.权利要求11-14之任一项的方法，其中一种或一种以上的二氧化硅级分包含热解二氧化硅。

20.权利要求11-15和19之任一项的方法，其中二氧化硅级分在干燥状态下混合。

21.权利要求1-10之任一项的二氧化硅在牙膏、牙用组合物或研磨膏方面的应用。