[发明专利]等离子体显示板无效

专利信息
申请号: 02106425.3 申请日: 2002-02-28
公开(公告)号: CN1392580A 公开(公告)日: 2003-01-22
发明(设计)人: 梶山博司;加藤明;鬼泽贤一;峯村哲郎;上谷一夫;井原靖;泷川志朗;能势功一;庆本勲;小泉康浩 申请(专利权)人: 株式会社日立制作所
主分类号: H01J17/49 分类号: H01J17/49
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王杰
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 等离子体 显示
【说明书】:

发明领域

本发明涉及一种用作显示器的等离子体显示板(以下简称PDP),并尤其涉及用于电极的保护膜。

现有技术的描述

PDP是一种在两个玻璃衬底之间设置有多个封闭的小放电空间的显示器。在矩阵显示型的PDP上,设置有多个格栅形式的电极,通过选择性地促使每个电极交叉处的放电盒发光而显示图象。在典型的表面放电型AC型PDP上,前面板上的显示电极被一个电介质层覆盖,并且在电介质层上形成一个保护膜。电介质层的设置使得能够储存给电极施加电压所致的电荷,并且设置的保护膜使得能够保护电介质层免遭放电气体中离子碰撞的损害,并还能发射二次电子以减小放电起始电压。类似上述的PDP例如描述为“等离子体显示器”(见Journal of Institute ofElectrical Engineers of Japan,Vol.119,No.6,pp346-349,1999)。

常规的情形是,大多把通过诸如蒸汽沉积的薄膜形成法形成的几百纳米厚的氧化镁膜用作保护膜。这种氧化镁通常具有吸收的湿气、二氧化碳、氧气、氢气和其它一些物质。当然,这些物质在开始时影响放电特性,并当PDP工作期间做为杂质气体排入到带电气体中时,对PDP的工作状态也有有害作用。特别是,对显著影响放电电压的二次电子发射特性有有害作用。

在本PDP的制造过程中,在充入放电气体之前先对板进行脱气处理。通过此脱气处理还没有被除去的任何气体都保留在成品中成为杂质气体。保护膜中吸收的湿气和二氧化碳特别难于消除,因此需要在高温下进行较长时间的脱气处理。在很多情况下,这种长时间的脱气处理可以是整个生产线速度的一个决定性因素。因为高温下的脱气影响其它部件,所以有一定的限制。

发明概述

需要AC型PDP的保护膜具有较高的二次电子发射特性,并且同时能够在工作期间稳定。虽然在PDP的制造过程中,气体成份尤其是保护膜中吸收的湿气和二氧化碳被消除,从而激活保护膜,但这种消除必须是易于完成的。常规的保护膜还有一个问题,即因为膜吸收大量的湿气和二氧化碳,所以甚至在350℃的真空加热之后还有大量剩余。结果,对完工的板的有效二次电子发射特性具有有害作用并降低放电特性。另外,因为工作期间从保护膜发射杂质气体,所以会产生放电特性不稳定的缺陷。为此,需要特定的措施,如提高加热温度和延长脱气时间,这样导致生产成本增大。

提出本发明以解决与现有技术有关的前述问题,并且本发明的目的在于提供一种配置有PDP-电极保护膜的PDP,其中PDP-保护膜具有较小的湿气和二氧化碳吸收性、较高的二次电子发射特性和优良的稳定性。

根据解决上述问题的本发明,提供一种等离子体显示板,显示板具有配置有显示电极的前面板和配置有地址电极的后面板,并通过促使在前后面板之间形成的放电空间放电而显示图象,其中安装在前面板放电侧的保护膜包括两层,一层是由高放电特性的材料制成的上层(外层),另一层是由低吸水特性的材料制成的下层(内层)。

或者,前面板配置一个这样的保护膜,该保护膜包括单位重量有不同的比表面积的两层,上层和下层,形成的上层具有较大的比表面积和薄膜厚度,形成的下层具有较小的比表面积和比上层厚的薄膜厚度。上层形成的材料层具有不小于20m2/g的比表面积(转换成每1g的保护膜),并且膜的厚度不大于1μm,下层形成的材料层具有不大于10m2/g的比表面积(转换成每1g的保护膜),并且膜的厚度不小于1μm。

利用具有较大比表面积的材料做为PDP的保护膜提高放电特性。为此,用比表面积为20m2/g或更大的氧化膜做为上层膜,由此增大了保护膜的二次电子发射系数,导致PDP充电起始电压的降低。另一方面,当比表面积较小时,即使在薄膜成形过程中导致湿气和二氧化碳的吸收,其后吸收的绝对量很小并且可以很容易地在加热脱气过程中除去。为此,把比表面积不大于10m2/g的材料用作下层膜。由此可以通过在不大于350℃下的加热脱气过程很容易地消除吸收的湿气和二氧化碳。即使加热脱气过程不充分,保护膜中吸收的剩余量也很小。加热脱气过程所需的时间依据于板的大小和盒的结构,并还依据于脱气系统的容量和方法。因而,不能总是以简单的方式决定时间,但对于普通的显示板大致为两个小时左右。

把一种氧化物用作根据本发明的PDP的保护膜,并且尤其优选主要由氧化镁制成的氧化膜。自然地,也可以包含任何其它的成份,以便改变氧化膜的特性。

附图简述

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