[发明专利]组合的掩模与使用该掩模制造有机电致发光装置的方法和设备

权利要求书

1.一种组合掩模，包括：

多个沉积掩模，每个具有沉积缝隙阵列的沉积掩模相应于沉积图案形成；和

在具有多个开口的基板上沉积掩模被排列，

其中沉积掩模通过接合单元以可脱离的方式被保持到基板上，和

其中用来在基板上定位沉积掩模的对准标记被形成在基板上。

2.根据权利要求1的组合掩模，其中当施加外力时，接合单元脱离沉积掩模。

3.用于根据权利要求1的组合掩模的制造设备，包括：

支承基板的台；

沉积掩模保持和移动单元，其相对基板保持沉积掩模和自由地移动沉积掩模；

定位系统，其检测基板和沉积掩模的对准标记或参考位置，并且使用沉积掩模保持和移动单元调整在基板和沉积掩模之间的相对位置；和

分离单元，其分离沉积掩模和基板。

4.用于根据权利要求1的组合掩模的制造方法，包括步骤：

在台上支承基板，在基板上沉积掩模被放置；

检测基板和沉积掩模的对准标记或参考位置；和

通过相对基板保持和移动沉积掩模，调整在基板和沉积掩模之间的相对位置；和

在调整相对位置的步骤后使用接合单元来把沉积掩模保持在基板上。

5.一种有机EL装置制造方法，包括步骤：

使用组合掩模的对准标记定位根据权利要求1的组合掩模和衬底，其将被在沉积室中进行沉积过程；和

使用组合掩模在沉积过程中形成薄膜层图案，从而在单一衬底上形成n个有机EL装置，其中n是等于或者大于2的整数。

6.根据权利要求5的有机EL装置制造方法，其中组合掩模通过将m个沉积掩模保持在基板上被设置，其中m是在2到n范围内的整数。

7.根据权利要求6的有机EL装置制造方法，其中m和k满足n＝m×k(k是在2到n范围内的整数)。

8.根据权利要求5的有机EL装置制造方法，其中薄膜层是发射层或金属电极层。

9.一种有机EL装置，通过根据权利要求5的有机EL装置制造方法制造。

10.一种有机EL装置制造设备，包括：

定位设备，用于定位根据权利要求1的组合掩模和衬底，该衬底将使用组合掩模的对准标记进行沉积过程；和

沉积设备，用于使用沉积掩模在沉积过程中图案化薄膜层。