[发明专利]自由基聚合性化合物有效

专利信息
申请号: 02105636.6 申请日: 2002-03-14
公开(公告)号: CN1377900A 公开(公告)日: 2002-11-06
发明(设计)人: 国田一人 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: C08F2/00 分类号: C08F2/00;C08F20/00
代理公司: 北京北新智诚专利代理有限公司 代理人: 陈英
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 自由基 聚合 化合物
【说明书】:

发明的技术领域

本发明涉及新的自由基聚合性化合物,更具体地说,涉及能够用于立体平版印刷、全息照相术、平版板印刷板前体、彩色挡板、感光保护膜和滤色器等图像形成材料,或油墨、涂料和粘合剂等光固化树脂材料中的自由基聚合性化合物。特别涉及适用于平版印刷板前体的光聚合性组合物的自由基聚合性化合物,该平版印刷板前体能够进行所谓直接制版,它是使用各种激光器用来自于例如计算机等的数字信号直接制版。

背景技术

现在可容易地获得具有高输出功率且体积小巧的发射波长为300nm~1200nm的紫外线,可见光或红外光的固体激光器,半导体激光器和气体激光器,这些激光器作为用来自例如计算机等的数字数据直接制版的记录光源是非常有用的。

关于对这些激光束敏感的记录材料已进行了多种研究。代表性的研究包括,可以用具有波长不少于760nm的红外激光器记录的材料,例如,美国专利4,708,925中记载的正性记录材料和JP-A-8-276558中记载的酸催化剂交联型的负性记录材料,和对波长为300nm~700nm的紫外线和可见光激光器敏感的记录材料,例如,美国专利2,850,445和JP-B-44-20189中记载的自由基聚合性负性记录材料。

另一方面,对300nm以下的短波长光敏感的记录材料对于感光保护材料特别重要。近年来,集成电路中的集成度日益提高,在VLSI等半导体基板的制造中,也需要线宽度在半微米以下的超微细图案结构。为了满足这种需要,在光照平版印刷曝光装置中使用的光源的波长越来越短,并对远紫外线或受激准分子激光(例如,XeCl,KrF或ArF)的使用进行了研究。另外,还开始了使用电子束形成超细微图案的研究。特别是,电子束有望成为下一世纪图案形成技术的光源。

作为所有这些图像形成材料的共同课题,是如何扩大这些图像的ON-OFF。换句话说,是怎样使图像形成材料的高感光度和保存稳定性并存。

光自由基聚合系统通常是高感光度的,但是,由于空气中氧对聚合的抑制大大降低了它们的感光度。因此,有人采用在图像形成层上设置氧隔离层的方法。但是,氧隔离层的形成会引起由于暗聚合引发的成雾,导致保存稳定性变差。同时具备高感光度和保存稳定性是很难的,现有技术中还没有得到能够充分满足该要求的结果。因此,需要解决该问题的新技术。

发明概述

因此,本发明的目的是提供用于光自由基聚合性组合物的自由基聚合性化合物,该光自由基聚合性组合物同时具有高感光度和优异的保存稳定性,有望由于其最高的感光度用于图像形成技术。

本发明的另一个目的是提供用于光聚合性组合物的自由基聚合性化合物,该光聚合性组合物适用于平板印刷板前体,该平板印刷板前体可通过发射紫外光,可见光或红外光的固体激光器或半导体激光器记录例如计算机等的数字数据进行直接制版。

下面的描述可使本发明的其它目的更加明朗。

本发明者们深入研究的结果发现,通过在光聚合性组合物中使用具有特定聚合性基团的化合物,可以实现上述目的。

具体地说,本发明的自由基聚合性化合物具有下述通式(I)、(II)或(III)所示结构:

  【化2】其中X3表示通过包含在其中的杂原子连接的杂环基;Q1表示CN或COX2;X2表示羟基、取代的氧基、取代的硫基、氨基、取代的氨基、通过包含在其中的杂原子连接的杂环基或卤原子;X1表示取代的氧基、取代的氨基、通过包含在其中的杂原子连接的杂环基或卤原子;Z1和Z2各自独立地代表至少含有6个以上碳原子的n价连接基团,其中n个连接部分全部是杂原子;Ra、Rb可相同或不同,分别代表氢原子、卤原子、氰基或有机残基;或Ra和Rb,X1和Ra或Rb,X3和Ra或Rb,或Q1和Ra或Rb可相互结合形成环状结构;n是2~6的整数。

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