[发明专利]具有干涉仪系统的曝光装置

权利要求书

1.曝光装置，它具有用以将底版上形成的图案投影到衬底上的投影光学系统、能够在相对于此投影光学系统移动的同时保持此衬底与底版两者中至少一个的台、支承此投影光学系统的镜筒支座，该曝光装置包括：干涉仪系统，此系统配备有利用装设在此台上且具有基本平行于XY平面的反射面的Z测量反射镜来测量此台相对于透镜转筒支座的Z位置与位移的干涉仪。

2.权利要求1所述的曝光装置，其中所述干涉仪系统包括设于此装置上的多个干涉仪系统。

3.权利要求1所述的曝光装置，其中应用所述多个干涉仪系统的测量结果测量此台的倾斜量。

4.权利要求1所述的曝光装置，其中所述干涉仪系统包括设于此装置之上在投影光学系统上方的多个干涉仪系统。

5.权利要求1所述的曝光装置，其中所述干涉仪系统中的干涉仪具有重叠的可测量区，而当所述的台位于这些相互重叠的可测量区的区域内时，转换所述干涉仪的测量。

6.权利要求1所述的曝光装置，其中此曝光装置还包括根据所述干涉仪系统的位置与位移测量结果用以校正位置与位移的控制装置，同时所述这多个干涉仪的测量值为所述控制装置同步地接收与发送。

7.权利要求1所述的曝光装置，其中所述干涉仪是安装在所述的台和依随此台的可动部分二者中的至少某个之上，此台具有用于Z测量的在支承此干涉仪的可动部分行程方向中较长的细长反射镜，而此用于Z测量的细长反射镜利用X与Y测量反射镜中的一个的上表面。

8.权利要求1所述的曝光装置，其中所述干涉仪系统使得干涉仪发射的测量光通过装于用作测量基准的镜筒支座上的一批反射镜或棱镜而射向Z测量反射镜。

9.权利要求1所述的曝光装置，其中来自所述干涉仪系统的测量光基本上垂直地入射到此Z测量反射镜的反射面上。

10.权利要求1所述的曝光装置，其中所述干涉仪总共发射出四束光，包括两束测量光和两束参考光，而这四束光是以基本相等的间隔按十字形位置关系形成。

11.权利要求1所述的曝光装置，其中设在Z测量反射镜紧邻前方处的反射镜或棱镜具有至少两个反射面，用以将测量光反射向Z测量反射镜和将参考光反射回入射光路。

12.曝光装置，它包括：

可沿Y方向移动的Y台；

可相对于Y台沿X方向移动的X台；

安装于此X台或Y台上并具有与XY平面平行的反射面的Z反射镜；

用以将所述Y台发射到Z方向的光束导向到所述Z反射镜的反射镜或棱镜，

应用此Z反射镜所反射的光束来检测所述X台或Y台的Z位置的干涉仪。

13.权利要求12所述的曝光装置，其中所述干涉仪是安装在所述Y台或X台上的。

14.权利要求12所述的曝光装置，其中所述干涉仪是安装于X方向或Y方向中，此曝光装置还包括具有用以将来自X或Y方向的光束反射到Z方向的反射面的光学件，而所述干涉仪则发射与X或Y方向平行而朝向此光学元件的光束。

15.权利要求12所述的曝光装置，其中所述的用来将光束导向上述Z反射镜的反射镜或棱镜具有：第一反射镜或棱镜，用来将所述Y台或X台发射到Z方向的光束反射到X或Y方向；第二反射镜或棱镜，用来将此第一反射镜或棱镜反射的光束反射到Z方向并以此光束照射此Z反射镜。

16.权利要求15所述的曝光装置，其中所述第一反射镜或棱镜与第二反射镜或棱镜在X或Y方向中是细长的。

17.权利要求15所述的曝光装置，其中所述第二反射镜或棱镜具有将第一反射镜或棱镜所反射的参考光束分量反射到第一反射镜或棱镜的反射面。

18.权利要求1所述的曝光装置，其中当所述台的中心位置控制到接近曝光中心时，所述干涉仪系统的多个干涉仪具有重叠的可测量区。