[发明专利]曝光方法及曝光装置

说明书

技术领域

本发明是关于一种曝光方法及曝光装置。

背景技术

当个人计算机(personal computer)或电视(television)摄像机等的显示器件朝向大幅使用液晶显示器(display)进行制造之际，将光罩(mask)与感光剂涂布于玻璃(glass)基板上，并在静止的状态下以曝光光线照射于光罩上，再凭借光学投影系统将光罩上所形成的图案(pattern)转写于玻璃基板上。之后，使用反复步进(step-and-repeat)型曝光装置以依序步进的方式合并玻璃基板上的图案而形成大画面。

然而，随着近年来图案细微化的趋势，而将曝光装置内所使用的光学投影系统的开口数NA设定变大，且由于开口数NA变大的缘故，因而导致光学投影系统的焦点深度因kλ/NA²(k为定值，λ为波长)的关系而变浅。而且，当进行液晶显示器的制造之际，所使用的玻璃基板的表面(曝光处理面)必需在光学投影系统的焦点深度内具有较小的平面度。但，由于玻璃基板一般是由玻璃压延制造而成，因此难以得到所期望的平面度。

因而，难以一次对此光学投影系统的焦点深度内的玻璃基板表面的全部曝光区域进行曝光处理。在公知中，凭借对位于光学投影系统的焦点深度内的玻璃基板上的曝光处理面进行预测而将玻璃基板上的曝光区域分割成多个小区域。之后，分别对分割区域进行曝光处理，以将此分割区域中的玻璃基板上所形成的分割图案合并而形成所预定的图案。具体而言，首先，分别对位于光学投影系统的焦点深度内的玻璃基板上的分割区域进行预测，再分别设定所预测的分割区域的尺寸。之后分别对具有各自对应此设定的分割区域的分割图案的光罩进行设计制作。接着，使用此光罩试验性的对玻璃基板进行曝光处理。总体而言，起因于光学投影系统的焦点深度内的玻璃基板的分割区域的玻璃基板的平面度不足而形成不良图案，由于此分割区域凭借此在焦点深度内对分割区域的尺寸再度设定修正而成，因此，必需重新修正制作对应此而再度设定修正的分割区域的光罩，之后进行再度曝光处理以于全部的曝光区域中得到具有所定的精确度的图案。

然而，由于在此方法中先以预测为基准将大曝光区域分割成多个小曝光区域之后，再进行曝光处理，因此，必需进行测试的曝光处理而降低生产性或作业效率。而且，在进行测试的曝光处理之后，需将未符合光学投影系统的焦点深度内的分割区域，依预测设定修正成符合焦点深度内的新分割区域尺寸，因而需修正制作具有对应此分割区域的分割图案的光罩，如此会使效率更进一步地降低。

发明内容

因此，鉴于上述情形，本发明的目的提供一种曝光方法及曝光装置，以对具有大平面度的大型基板，在高生产性及良好作业效率的情形下，进行精确度佳的曝光处理。

为解决上述问题，本发明的较佳实施例采用安装有对应图1至图9的结构。

本发明的曝光方法，适用于在光学投影系统PL中在基板P上曝光形成图案PA的曝光方法，此方法包括：检测基板P的平面度，再以此检测结果为基准，对基板P上的投影区域的尺寸进行设定。

本发明的曝光装置，适用于在光学投影系统PL中在基板P上曝光形成图案PA的曝光装置EX，此装置包括检测装置(6、CONT)与设定装置(CONT、M、B)。检测装置(6、CONT)用以检测基板P的平面度。设定装置(CONT、M、B)以此检测结果为基准，对基板P上的投影区域的尺寸进行设定。

在本发明中，检测基板P的平面度，再以此检测结果为基准，对基板P上的投影区域的尺寸进行设定。例如当投影区域内所对应的基板P的曝光处理面以较有效率的方式设定于光学投影系统PL的焦点深度内。因此，由于可以较有效率的方式设定对应平面度的较佳投影区域，因而可在实现高生产性的同时，以较有效率地方式进行精确度佳的曝光处理。

为让本发明的上述和其它目的、特征、和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合附图，作详细说明。

附图说明

图1所示为本发明的一较佳实施例的曝光装置的全体概略结构图。

图2A至图2B所示为遮蔽装置的说明图。

图3所示为用以说明本发明的一较佳实施例的曝光方法的流程图。

图4所示为用以说明本发明的一较佳实施例的曝光方法的流程图。

图5A至图5D所示为本发明的第一较佳实施例的曝光方法的说明图。

图6A至图6B所示为基板平面度的说明图。

图7A至图7D所示为本发明的第二较佳实施例的曝光方法的说明图。