[发明专利]局部去除敷在半透明或透明基底上的敷层的方法

权利要求书

1.局部去除敷在半透明或透明基底(1)上的敷层(2)的方法，其特征是：借助一个固体脉动激光器(4)，或者至少一个脉动激光二极管，将一个脉冲短于30纳米、波长在10微米和360纳米之间的脉动激光束(3)引至敷层(2)上须去除的地方。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征是：脉冲短于10纳米的激光束(3)被引向敷层(2)。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征是：波长在1200纳米和400纳米之间的激光束(3)被引向敷层。

4.根据上述任一权利要求所述的方法，其特征是：敷层(2)从基底(1)上局部地清除的敷层是这样的：基底(1)与敷层(2)整体对采用的波长的吸收小于30％。

5.根据上述任一权利要求所述的方法，其特征是：激光束(3)相对于法线的入射角α位于5°和35°之间，激光束扫描的方向使在α角度下被驱逐出的残渣沉积在仍有敷层的部位上。

6.根据上述任一权利要求所述的方法，其特征是：脉动激光器(4)的光束(3)通过一个光成像系统传递到敷层(2)上。

7.根据上述任一权利要求所述的方法，其特征是：脉动激光器(4)的光束(3)通过一个光阑传递到敷层(2)上。

8.根据上述任一权利要求所述的方法，其特征是：脉动激光器(4)的光束(3)通过基底(1)引至敷层(2)上。

9.根据上述任一权利要求所述的方法，其特征是：采用由闪光灯或二极管泵激的YAG类激光器，例如Nd：YAG激光器，或者Nd：Glass类激光器，例如Nd：YLF激光器。

10.根据上述任一权利要求所述的方法，其特征是：激光器(4)加配一个谐波发生器，如倍频器。

11.根据上述任一权利要求所述的方法，其特征是：激光器(4)加配一个谐波发生器和一个光学系统以便同时使用不同能量密度的谐波和基波。

12.根据权利要求1到9之一所述的方法，其特征是：使用2个一样的频率相同的激光器(4)，其中一个通过一个同步箱(11)与另一个随动，以便后一个激光器(4)以f的系数错开时间发射，2个激光束然后在一个倍频器(12)上组合，或者在一个偏极滤光器(14)上组合。

13.根据上述任一权利要求所述的方法，其特征是：激光束(3)被引至普通或合成玻璃的或者透明塑料如PET的基底(1)上。

14.根据权利要求13所述的方法，其特征是：敷层(2)被局部地从由风挡或汽车窗玻璃、建筑物窗玻璃或瓶玻璃构成的基底(1)上清除。

15.根据上述任一权利要求所述的方法，其特征是：清除包含至少一层金属层和/或至少一层金属氧化物层的敷层(2)。

16.根据上述任一权利要求所述的方法，其特征是：激光束(3)由至少一条光纤(7)引导。

17.根据上述任一权利要求所述的方法，其特征是：一种压缩气体被引至敷层(2)上激光束(3)照射的地方。

18.根据上述任一权利要求所述的方法，其特征是：对敷层(2)上激光束(3)照射的地方吸尘。

19.根据上述任一权利要求所述的方法，其特征是：使基底(1)进行相对运动以便确定有待清除的敷层的形状。

20.根据上述任一权利要求所述的方法，其特征是：通过用激光束(3)局部清除敷层，基底(1)在有敷层前的原始物理特性重新恢复。

21.根据上述任一权利要求所述的方法，其特征是：局部清除敷层(2)，以使基底(1)重新恢复其初始的光学特性。

22.根据上述任一权利要求所述的方法，其特征是：局部清除敷层(2)，使有敷层(2)的部位与无敷层部位之间的过渡清晰，过渡线宽度甚至低于10微米。

23.根据上述任一权利要求所述的方法，其特征是：激光束3被敷层(2)吸收的能量被一个反射镜系统回收并重新传递到有待清除的敷层(2)上。

24.根据上述任一权利要求所述的方法，其特征是：在最后阶段有一项操作：即以大于100°，最好大于600°的温度，对基底(1)和敷层(2)的剩余部分进行焙烧。